Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ATX 700E #9061699 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9061699
Style Vintage: 2001
In-line sputter system
Work size: 5.5G, 1600x1200xt2.8mm
SiO2: <= 300A, RF Mag. Sputter
ITO: <= 2000A, DC Mag. Sputter
ITO patterning:
Display Glass
1,108 × 980mm
1,328 × 1,166mm
1,460 × 1,030mm
1,620 × 1,200mmt
1.5 ~ 2.8mm
Running 2003 to 2007.
ITO sputtering:
Display Glass
Max.: 1600 × 1200 × t2.8mm
Running 2001 to 2006
Cleaning equipment:
Display Glass
The flow roller conveyors flat sheet-fed, pure water substitution, air knife draining
Cleaning effective width 1,200mm, normal speed 1.2m / min) the wash water scrubbing
Running 2001 to 2006
Cut chamfer 1:
Display Glass
Target substrate size: 1620 × 1210 ~ 1050 × 650
Target substrate thickness: 1.8 ~ 2.8
Setsu-men-Komei cleaning and inspection
Running 2001 to 2012
Cut chamfer 2:
Display Glass
Target substrate size: 1220 × 1050 ~ 840 × 550
Target substrate thickness: 1.8 ~ 2.8t
Setsu-men-Komei cleaning and inspection
Running 2001 to 2009
Cut chamfer 3:
Display Glass
Target substrate size: 1800 × 1210 ~ 950 × 550
Target substrate thickness: 1.8 ~ 2.8t
Setsu-men-Komei cleaning and inspection
Running 2003 to 2012
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ATX 700E est un équipement polyvalent conçu pour fournir une large gamme d'applications de dépôt de films. Doté d'un design unique à double source, ce système permet la croissance simultanée de deux matériaux cibles différents. Il utilise un procédé de pulvérisation par pulvérisation qui dépose des couches minces de métal, d'alliage, de céramique et de diélectrique avec une composition contrôlée sur de grands substrats. AKT ATX 700E est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 200mm. L'unité se compose de deux composants primaires - un module de processus avec la cible, la source et le générateur de plasma, et un module mécanique. Le module de traitement est celui où la source et les matériaux cibles sont appliqués à la plaquette. Les sources et la cible sont précisément espacées pour l'espacement optimal source-substrat et fournissent des films uniformes et de haute qualité. De plus, un générateur de plasma est utilisé pour fournir un environnement gazeux alimenté à haute température et haute pression pour le dépôt de films. Le module mécanique comprend la chambre à vide, la machine à gaz, le générateur de plasma, l'outil de contrôle de la température et une variété de systèmes de manutention des composants. La chambre à vide est celle où les plaquettes sont traitées dans un environnement sous vide. L'actif de distribution de gaz contrôle les débits de gaz et la composition chimique pour obtenir un contrôle précis des caractéristiques du film. Le modèle de régulation de la température assure la formation constante des films sur le substrat et les matériaux cibles. Enfin, l'équipement de manutention des composants gère le chargement, le transport et le déchargement des plaquettes du système. AMAT ATX 700E est équipé d'une large gamme de contrôles de processus et de fonctions de surveillance. Une unité de contrôle conviviale permet de régler des paramètres tels que la pression, la température, le débit de gaz, l'espacement source-substrat et la configuration cible-source. Plusieurs dispositifs de sécurité sont également inclus, comme une double machine de protection contre les pannes de courant qui surveille à la fois la température et la pression dans la chambre à vide. Dans l'ensemble, ATX 700E fournit une solution polyvalente et fiable pour les applications de dépôt en couches minces. Il est adapté à un large éventail d'applications de recherche, de développement et de production, couvrant une variété de matériaux et de tailles de substrat. La conception à double source de l'outil permet un dépôt de film efficace et uniforme à moindre coût, tandis que ses fonctions de contrôle et de surveillance avancées permettent un contrôle précis et des performances fiables.
Il n'y a pas encore de critiques