Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin #9243193 à vendre en France
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ID: 9243193
Vertical inline sputtering system
Substrate carrier:
Substrate dimensions: 730 x 920 mm
Carrier dimensions:
Approximate 1840 mm length
Approximate 2527 mm height
Carrier loading capacity: (4) Substrates
Carrier material: Ti / Al
Glass breakage rate within vacuum area:
Glass thickness:
< 0.5 mm: 0.3%
≥ 0.5 mm: 0.1%
Vacuum measuring equipment:
Pirani vacuum meter:
Range: 10³ hPa to 1x10^-3 hPa
Ionization gauge:
Range: 10^-2 hPa to 1x10^-9 hPa
Capacitance vacuum meter sensor head:
Range: 10^-2 hPa to 10^-4 hPa
Pumps:
SHIMADZU TPH1503 Turbo-molecular pump
Rough vacuum pump SP630 plus WSU-2001
Sputter cathodes:
Type: Rotary cathode & water cooled
Material of backing tube: Stainless steel
Magnetic field: Static magnet array
Target: sprayed onto backing tube
Target length: 2150 mm
Planar cathode:
Type: DC Magnetron
Material of backing plate: Titanium with water cooling channels
ITO / MO BP
Al (2) BP
Magnetic field: Move mag
Target fixing: Bonding
Target length: 2100 mm
(2) 300 x 265 x 9 mm³ (Two end pcs)
1500 x 265 x 7 mm³ (Middle part segmented in pcs)
Heater system:
Heating chamber equipped with resistance heater which emits IR radiation
Mode of operation: PID Regulation
Heater set point capability: 650°C
Shielding:
Shielding material: Stainless steel
High sticking coefficient to prevent particle generation
Machine control system:
Programmable logic controller with decentralized IO’s
Digital & analog controls:
Pumps
Valves
Power supplies
Interlocks for water and compressed air
Error messages
Operating system: Windows
Cooling water:
Pressure: 5/7 Bar absolute
Maximum back pressure: Open drain
Water inlet temperature range: 18-25°C
Temperature level within: ± 2°C (for TMP’s only)
Hardness of water: 6-8°dH (Equivalent 107-143 ppm CaCO3)
Electric conductivity: 100 - 200 μS/cm
pH-Value: 8 - 10
Foreign particles size: Maximum 100 μm
Foreign particles concentration: Maximum 10/cm³
Dissolved Cl: Maximum 20 mg/l
Dissolved CO2: Maximum 15 mg/l
Compressed air:
Pressure: 6/8 Bar absolute
Sputter gases:
Argon
Oxygen
Nitrogen
Argon / Oxygen
Purity of sputter gas: 99.999 %
Venting gas: Nitrogen or dry compressed air
Dew point: ≤ -30°C
Pressure maximum: 1.5 Bar absolute
Ambient requirements:
Temperature at machine & machine control room: 20-30°C
Relative humidity: ≤ 60 %
Machine SiO2 / ITO Track consumption values:
Power: 760 kVA / 1000 A
Machine metal track consumption values:
Power: 1000 kVA / 1500 A
Electric power: 400 V ±10 %, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 wires (3 AC, N, PE).
AMAT/APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin est un équipement de pulvérisation conçu pour enrober ou déposer des couches minces de matériau sur un substrat. Il s'agit d'un système à deux chambres, c'est-à-dire qu'il comporte deux chambres à vide indépendantes qui peuvent être utilisées pour pulvériser des matériaux différents en un seul cycle de fonctionnement. L'unité est configurée pour un fonctionnement sans surveillance, permettant aux utilisateurs de définir des paramètres et de laisser la machine sans surveillance jusqu'à ce que le film requis ait été déposé. Il est basé sur la technologie de pulvérisation magnétron plane à vide, à courant continu, et peut fonctionner avec des cathodes jumelles. Ceci permet des taux de dépôt élevés et une excellente uniformité sur l'ensemble du substrat. L'outil peut également être accosté avec le loquet pour automatiser la manipulation du substrat. L'actif est capable de déposer des matériaux tels que l'aluminium, l'acier inoxydable, le titane, le cuivre, le tungstène et le chrome. Il est également capable de déposer plusieurs couches en un seul cycle opératoire pour créer des couches minces multicouches, et il peut également réaliser des structures concaves et convexes sur des surfaces courbes. En termes de spécifications de fonctionnement, le modèle a un volume de chambre à vide de 4 litres, une pression de base de 2x10-7 torr, une configuration cathodique de deux magnétrons planes monobloc, et une puissance allant jusqu'à 2000 Watts par magnétron. L'équipement peut également accueillir des substrats jusqu'à 200mm de diamètre et a une plage de chauffage du substrat allant de la température ambiante jusqu'à 600C. AMAT NAR 1800 Twin est un système de pulvérisation sûr et fiable qui offre une excellente performance et uniformité.
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