Occasion BALZERS / EVATEC Clusterline 200 #9248388 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9248388
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2007
Physical vapor deposition system, 6"
Can be configured for 4"-8"
Supports thin wafers and warped wafers
(6) Process modules:
Degas module
Au (gold) sputter
Ti (titanium) sputter
Ni (nickel) sputter
Pd (palladium) sputter
Ag (silver) sputter
Includes:
(2) Load lock cassette stations
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Cryo pumps on PVD chambers
ADVANCED ENERGY Pinnacle DC power supplies
(2) User interface stations: Front and rear
Foreline vacuum pump
Control rack:
Power supplies
Controllers
AC Power distribution
Signal light tower
2007 vintage.
BALZERS/EVATEC Clusterline 200 est un équipement spécialisé de dépôt de pulvérisateurs conçu pour des applications industrielles, universitaires et de recherche. Il a été développé par la société suisse EVATEC et utilise une configuration verticale, permettant une grande variété de configurations de revêtement. Le système est composé d'un amas de sources de pulvérisation, permettant un contrôle plus précis de l'uniformité de l'épaisseur des couches minces sur de grandes surfaces. Ses chambres peuvent être programmées pour créer tout type de revêtements, des couches très réfléchissantes aux revêtements plus protecteurs. EVATEC Clusterline 200 comprend également une source de plasma à couple RF, une surveillance optique des émissions pour le contrôle de la vitesse de dépôt et un détecteur de point d'extrémité in situ. La configuration multi-sources de BALZERS Clusterline 200 offre plusieurs avantages, dont une adhérence supérieure, une uniformité et une reproductibilité. Il offre également une meilleure homogénéité de procédé, permettant le dépôt de couches plus épaisses avec un contrôle exact du profil d'épaisseur. Cette fonctionnalité offre plus de flexibilité quant au choix des matériaux, permettant une variété de tailles, de matériaux, de formes et de topographies. La précision du sous-millimètre de Clusterline 200 permet de meilleurs résultats de dépôt, avec des surfaces plus lisses, plus planes et même plus lisses. En outre, l'unité réduit les non-uniformités d'épaisseur de revêtement qui peuvent être causées par les particules pulvérisées, en raison de sa technologie de revêtement brevetée. Ses capacités de chauffage à haute température et substrat, ainsi que des flux gazeux optimisés, permettent de déposer des films à hautes performances optiques. En outre, la machine est livrée avec une grande variété d'électrodes pour différents objectifs de dépôt. Cela signifie que l'utilisateur peut sélectionner le matériau le plus approprié pour leurs besoins, tout en surveillant les paramètres du processus pendant et après chaque cycle. BALZERS/EVATEC Clusterline 200 est incroyablement facile à utiliser, et est compatible avec une gamme d'outils logiciels conviviaux à l'ordinateur. Cela permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler l'outil à distance, leur donnant accès aux données de processus granulaires. Un actif d'entretien assure que le processus de dépôt est maintenu en mode sûr tout au long du fonctionnement. Des résultats de haute qualité et des performances de production améliorées sont une garantie avec EVATEC Clusterline 200.
Il n'y a pas encore de critiques