Occasion BALZERS / EVATEC MSP 1000 #9164752 à vendre en France

L'équipement de pulvérisation BALZERS/EVATEC MSP 1000 est un système haut de gamme conçu pour le revêtement de couches minces sur une variété de matériaux. Il s'agit d'une unité multi-chambres, permettant l'utilisation de sources de dépôt multiples dans le dépôt de pulvérisateurs. Cette machine est la première du genre à comporter un moniteur secondaire d'émission d'électrons, assurant des performances optimales. L'outil utilise un mécanisme d'éjection automatique, permettant un transfert facile du substrat. L'actif comporte quatre sources de pulvérisation interchangeables, chacune pouvant s'enrober par épaisseur, composition ou dépôt multicouche. Les sources sont des combinaisons gaz azote/argon et ont une vitesse de pulvérisation allant jusqu'à 24 mbar. EVATEC MSP 1000 dispose d'une chambre de réaction avec un loadlock pouvant contenir jusqu'à six substrats en même temps. Le modèle peut accueillir jusqu'à 500x500 mm de substrats et a également la capacité de revêtir des substrats plus grands avec des composants accessoires supplémentaires. La température du substrat peut être régulée de 25 ° C à 800 ° C Le processus de dépôt est surveillé et contrôlé à l'aide d'une unité de contrôle avancée à microprocesseur. Cette unité interfaçait avec un PC, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt. L'équipement est conçu pour assurer un dépôt uniforme et réduire la contamination, et comprend une vanne de fermeture étanche au soufflet et un détecteur de fuite sous vide. Le système est livré avec une unité de distribution automatique de gaz en option, pour un contrôle précis et pratique des mélanges de gaz. La machine de distribution de gaz est reliée à la chambre de réaction par une conduite de gaz. Cette ligne est également reliée aux sources de pulvérisation, ce qui évite l'échange manuel de gaz. Les sources de pulvérisation ont un moteur pas à pas et un codeur pour un contrôle de position précis. BALZERS MSP 1000 est un outil de pulvérisation hautement avancé pour le dépôt de couches minces. Avec ses sources réactives de pulvérisation, ses dispositifs de contrôle des dépôts et ses mesures de sécurité, cet actif peut gérer divers types de processus de dépôt. Son unité de contrôle avancée, son modèle de livraison de gaz et d'autres caractéristiques garantissent un dépôt précis et efficace avec une contamination minimale.