Occasion CANON / ANELVA C-7100 #9153006 à vendre en France

CANON/ANELVA C-7100 Sputtering Equipment est un système avancé de dépôt en couches minces pour le dépôt de couches de films sur des substrats. Il est utilisé dans la fabrication de dispositifs optiques et optoélectroniques à couches minces, tels que des transistors à couches minces (TFTs). L'unité présente une variété de choix pour les paramètres de dépôt, comme la source d'énergie (courant continu, impulsion continu et fréquence radio), la zone d'exposition cible, la composition de la cible, etc. La machine est conçue pour traiter des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre, assez grand pour la plupart des applications industrielles. L'outil CANON C7100 est conçu pour offrir un procédé de dépôt de film de qualité supérieure dans des conditions rentables. Il utilise deux types de sources de pulvérisation : une source de pulvérisation magnétron multi-cibles et une source de pulvérisation à diode haute densité. La source de pulvérisation magnétron est capable de déposer des films de conductivité électrique accrue. La source de pulvérisation de diodes offre une vitesse de dépôt et une homogénéité supérieures. Les deux sources de pulvérisation peuvent être programmées séparément avec des paramètres de dépôt différents pour obtenir les propriétés de film souhaitées. ANELVA C 7100 comprend une chambre à vide multi-zones avec évacuation à une pression de 1 × 10-3 Pa. L'actif est équipé d'un four de traitement thermique intégré pour le traitement post-dépôt des couches de film. En outre, le modèle est compatible avec une variété de systèmes de distribution de gaz, tels que le prétraitement de surface et l'introduction de gaz. L'équipement utilise une interface utilisateur graphique tactile intuitive (interface graphique) pour faciliter le fonctionnement. L'interface graphique fournit toutes les options nécessaires pour contrôler les paramètres du système, surveiller les variables de l'unité et saisir les données. La machine comprend également un outil de stockage automatisé de recettes pour un rappel facile des conditions de fonctionnement et des recettes précédemment sauvegardées. CANON/ANELVA C7100 est capable d'un certain nombre de procédés avancés, y compris le dépôt assisté par plasma de films et la formation de masques de gravure. Il offre une surveillance multiple des taux de dépôt et de l'uniformité, des capacités de cartographie des cibles des pulvérisateurs multipoints et un chargement et un déchargement préétablis des substrats. L'actif est conçu pour être respectueux de l'environnement et dispose d'une pompe à vide turbomoléculaire intégrée et d'un mode de consommation électrique faible. CANON/ANELVA C 7100 est un modèle puissant et rentable pour obtenir une excellente qualité de dépôt en couches minces. Il offre une excellente uniformité de dépôt et une large gamme de capacités de processus. De plus, l'interface intuitive de l'écran tactile rend l'équipement facile à utiliser et à programmer.