Occasion CANON / ANELVA C-7100GT #9188155 à vendre en France
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Vendu
ID: 9188155
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
PVD Gate metal deposition system, 12"
CANON / ANELVA MDX400
Tandem core
Software version: 100902
Upgraded on 2009
Hardware configuration (Fab):
Main system:
Equipment front end module (EFEM)
Quadro load lock
(2) Transfer chambers
Pass chamber (with wafer aligner)
FOUP System:
(2) RORZE Load ports
Handler system:
Transfer robot double end-effector (EFEM)
(2) Wafer handling units dual-arm (Transfer chamber)
ATM Wafer aligner (EFEM)
VAC Wafer aligner (Pass chamber)
Process chamber:
(3) PVD PCM-X Chambers
(2) PVD 2PVD-EX Chambers
PVD 4/5PVD-EX Chamber
Gas heat chamber
Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units):
(4) Power distribution racks
Compressor rack with cryo compressor
Control rack for core
(2) Control racks for (2) PVD-EX
Control rack for 4/5 PVD-EX
(3) Control racks for PCM-X
Control rack for gas heat
EES Rack
(3) Chillers
2007 vintage.
CANON/ANELVA C-7100GT est un équipement de pulvérisation à haute performance compact conçu pour diverses applications de dépôt en couches minces. Le système dispose d'un dépôt de pulvérisation magnétron à courant continu à haute vitesse et à commande de précision qui peut être utilisé pour une variété de dépôts. L'unité de pulvérisation est conçue pour fournir une vitesse de dépôt optimale et une qualité de substrat supérieure pour le traitement avancé des couches minces. Il est capable de créer des couches précises et homogènes sur de grands substrats avec un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film. Les principaux composants de CANON C-7100GT sont une source, un porte-substrat, une chambre de pulvérisation rotative, une machine à vide, une unité de puissance, une chambre de serrure et un contrôleur. La source est constituée d'un ou plusieurs magnétrons avec une variété de matériaux cathodiques qui sont utilisés pour créer les couches minces de matériau. Le porte-substrat est capable de manipuler des substrats de grande taille pouvant atteindre 300 mm de diamètre et a la capacité de tourner et de faire basculer l'échantillon. La chambre rotative de pulvérisation fait tourner le substrat pour assurer un dépôt de film uniforme. L'outil sous vide maintient l'environnement de travail et élimine les produits de la réaction. La chambre de serrure atténue les fluctuations de la pression et de la température de la chambre de travail. Enfin, le contrôleur est responsable de l'alimentation, des paramètres de la réaction et de la surveillance du processus de pulvérisation. ANELVA C-7100GT est adapté à une large gamme d'applications de dépôt en couches minces telles que les revêtements optiques, les revêtements réfléchissants, les revêtements antireflets, les revêtements de protection de surface, les revêtements nanostructurés, les dépôts de couches métalliques et les encapsulations. Il est capable de travailler avec différents types de matériaux de travail tels que polymères, métal, céramique et composites. Il offre un contrôle précis des dépôts avec des variations aussi faibles que 0,2 nm d'épaisseur de film. L'actif est conçu pour des débits élevés afin d'assurer une préparation facile et un fonctionnement flexible. C-7100GT est un modèle fiable et durable avec une longue durée de vie et de faibles exigences d'entretien. Il dispose d'un équipement de sécurité qui comprend des arrêts d'urgence intégrés et des dispositifs de sécurité qui protègent l'opérateur, les composants et l'environnement. Le système est conçu pour répondre aux normes et règlements de sécurité reconnus et offre diverses options pour la télécommande et la surveillance. L'unité offre également une optimisation précise et précise des processus et de la collecte de données, permettant aux utilisateurs de suivre et d'analyser les résultats du processus de dépôt en couches minces.
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