Occasion CANON / ANELVA EVC-1501 #9048865 à vendre en France

CANON/ANELVA EVC-1501 est un équipement de pulvérisation avancée de haute précision, capable de déposer des couches minces métalliques ou diélectriques précises. Il utilise des caractéristiques avancées telles qu'une vitesse et une qualité de dépôt améliorées, grâce à une précision d'épaisseur de couche de sous-microns qui est adoptée pour les applications électroniques, optoélectroniques et MEMS. Ce système de pulvérisation utilise un canon à faisceau d'électrons pour la neutralisation de masse et une unité de contrôle électromagnétique de l'environnement (EMEC), qui permet sa cohérence d'épaisseur de couche sous-micron. Le taux de dépôt est élevé, avec une pression de travail à l'état stable de l'ordre de 0,1 mBar à 1 mBar, et un courant cible maximal de 150 mA. De plus, la tension d'isolation est réglable de 0 à 150 V, ce qui vous permet d'ajuster l'épaisseur et l'uniformité du revêtement au besoin. De plus, le dépôt peut être effectué dans des atmosphères réactives ou non, avec une capacité de 15 unités de fonctionnement en température ambiante. La machine est également livrée avec une pompe turbo-moléculaire à vide haute performance qui fournit un taux d'évacuation rapide et efficace à la chambre de fonctionnement. De plus, l'outil dispose d'un moniteur de particules avancé et d'un moniteur de pompage qui assure un contrôle de haut niveau sur le processus d'évacuation. Cela facilite le processus de dépôt précis et fiable. CANON EVC-1501 dispose également d'un générateur d'impulsions de sortie à haut débit, permettant à l'utilisateur de mettre en œuvre une pulvérisation rapide. Elle permet en outre à l'utilisateur d'utiliser diverses capacités de contrôle de motifs telles que le dépôt de couches minces d'oxyde-nitrure, le contrôle de granulométrie et le contrôle de propriété diélectrique. Globalement, ANELVA EVC-1501 est un modèle de pulvérisation perfectionné et précis conçu pour le dépôt de couches minces métalliques ou diélectriques. Il présente un certain nombre de caractéristiques avancées pour améliorer la vitesse et la qualité des dépôts, telles qu'une meilleure précision de l'épaisseur de la couche de sous-microns, une tension d'isolation réglable et une pompe turbo-moléculaire à vide de qualité supérieure pour une évacuation efficace. Elle permet en outre d'appliquer un certain nombre de propriétés permettant une grande homogénéité de couche et une large gamme d'applications.