Occasion CANON / ANELVA EVC-1701 #9269417 à vendre en France

CANON/ANELVA EVC-1701 est un équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces. Il dispose d'une alimentation électrique à courant continu (DC) avancée et d'une technologie innovante de contrôle de forme, lui permettant de produire des films minces de haute précision pour de petits composants et dispositifs d'épaisseur uniforme. Le système de pulvérisation est capable de déposer des matériaux entraínant à la fois des procédés de pulvérisation magnétique et magnétron. L'alimentation permet aux utilisateurs de contrôler avec précision la vitesse de dépôt, en réalisant des films minces et uniformes. Cette commande est possible grâce à l'incorporation d'une unité en boucle fermée avec un générateur d'impulsions embarqué. Le générateur d'impulsions est supporté par une machine Active Beam Control (ABC) qui mesure la tension exacte pendant le processus de dépôt pour un dépôt précis et reproductible en couches minces. CANON EVC-1701 offre également une technologie de pulvérisation magnétron permettant aux utilisateurs de contrôler précisément les caractéristiques et la forme des films. La pulvérisation magnétron est un procédé de pulvérisation plus avancé que la pulvérisation continue car elle peut former des formes plus angulaires à la surface du substrat. Cette technologie peut principalement être utilisée pour réaliser des films minces métalliques, tels que le cuivre et l'aluminium, sans altération de la composition des films. L'outil offre un support pour différents domaines d'application allant des grands substrats aux formes et géométries complexes. Il est compatible avec les substrats de la Série CANON Monacloud allant de grandes pièces rectangulaires et peut également déposer des couches minces directement sur des composants de surface complexes sous forme tridimensionnelle. En plus de la technologie de pulvérisation, ANELVA EVC-1701 possède plusieurs autres fonctionnalités, dont une chambre de traitement intégrée, des régulateurs de débit massique réglables pour le contrôle du débit de gaz, un débit de gaz sélectionnable livré à la chambre, une gestion thermique automatisée et un menu convivial pour configurer facilement le processus de dépôt. EVC-1701 est un modèle avancé de pulvérisation avec un large éventail d'applications. Son contrôle précis de la vitesse de dépôt, des couches minces uniformes et un excellent contrôle de forme en font le choix idéal pour un large éventail d'applications industrielles et de recherche.