Occasion CANON / ANELVA ILC 1013 #9068935 à vendre en France

CANON/ANELVA ILC 1013 est un type spécial d'équipement de pulvérisation utilisé pour de nombreuses applications différentes. CANON ILC 1013 est un système à trois chambres, avec trois composants principaux : une chambre de pulvérisation (source), une chambre de cryo-pompe et une chambre de dépôt. Cette unité dispose de la technologie d'alignement Ion Laser Components (également connu sous le nom ILC), qui fournit la précision ultime lors de l'exploitation de petites caractéristiques sur de grands substrats. Dans la chambre de pulvérisation, différents matériaux cibles tels que métaux, céramiques et diélectriques sont montés dans des chambres cathodiques. La chambre est alors alimentée en Ar gaz à basse pression (1 mtorr) à partir de laquelle des milieux cibles appropriés sont soumis à un flux ionique de magnétrons DC. En faisant varier les niveaux de tension et de courant, on peut contrôler la vitesse d'érosion et la composition du matériau pulvérisé. La cryo-pompe utilise de l'azote liquide pour supporter un vide de ~ 10-8 torr. Ceci se fait par une combinaison de la conductivité thermique de l'azote, de la conductivité thermique des parois sous vide et des champs magnétiques générés par la cryo-pompe. La cryo-pompe offre un environnement de dépôt extrêmement uniforme et propre. La chambre de dépôt contient le substrat sur lequel le matériau doit être déposé. Ceci se fait par un mécanisme de transfert continu qui déplace le substrat d'une position à l'autre à une vitesse prédéterminée à l'épaisseur du film. Un contrôleur de vitesse de pulvérisation est utilisé pour faire varier la vitesse de dépôt. En conclusion, ANELVA ILC 1013 est une machine à pulvériser de pointe, intégrant des technologies de pointe telles que l'alignement ILC, qui fournit l'alignement parfait pour les petites caractéristiques. Son architecture à trois chambres contient à la fois une chambre de pulvérisation et une chambre de cryo-pompe pour assurer un dépôt uniforme et propre. Le substrat est spécifiquement positionné dans la chambre de dépôt, et il subit un mécanisme de transfert continu à une vitesse prédéterminée. Grâce à cet outil, diverses applications telles que le dépôt de métaux, de céramiques et de diélectriques peuvent être réalisées.