Occasion CANON / ANELVA ILC 1051 #293821354 à vendre en France

CANON/ANELVA ILC 1051 est un équipement de pulvérisation conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il est capable de déposer divers matériaux sur divers substrats dont des couches d'oxyde, de métal, de nitrure et de passivation organique. CANON ILC 1051 offre également la possibilité d'utiliser la technologie de pulvérisation magnétron pour déposer des films d'une grande variété de matériaux, dont le titane, le chrome, le cuivre et l'aluminium. Le système est équipé d'une chambre de procédé intégrée et d'une serrure brevetée. Cela permet à la machine de déposer des matériaux sur des substrats rapidement et à haut débit. De plus, le verrou de charge permet de charger et décharger à la fois plusieurs substrats sans exposer l'intérieur de la chambre à de l'air contaminé. La chambre de procédé intégrée est chauffée uniformément et présente une grande surface de travail, permettant le dépôt de couches minces d'épaisseur variable. Il est également capable de réaliser des films très uniformes avec un contrôle précis de l'épaisseur du film. L'outil est équipé d'un régulateur de débit de gaz réglable et d'un moniteur de pression de pulvérisation. Ceci permet de maintenir l'environnement à l'intérieur de la chambre sous contrôle et permet à l'utilisateur d'ajuster la pression du gaz pour atteindre la vitesse de pulvérisation souhaitée. L'actif est également équipé d'un mécanisme de rotation qui permet de faire tourner le substrat pendant le processus de dépôt, ce qui contribue à réduire les défauts d'homogénéité dus au dépôt de film non uniforme. Le modèle utilise une alimentation en courant continu et un équipement multi-plaques pour contrôler la vitesse de pulvérisation. Ceci permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt. L'alimentation en courant continu permet également au système de déposer des matériaux sur divers types de substrat, y compris de grands substrats et substrats d'épaisseur variable. ANELVA ILC-1051 est une unité fiable et efficace qui offre un large éventail de caractéristiques et d'avantages pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est capable de déposer des couches minces d'épaisseurs variables sur une variété de substrats avec un contrôle précis de la vitesse de pulvérisation. En outre, il offre une grande surface de travail et dispose d'une serrure intégrée pour le chargement et le déchargement rapides du substrat, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement des semi-conducteurs.