Occasion CANON / ANELVA ILC 1051 #9111758 à vendre en France

CANON/ANELVA ILC 1051 est un type de système de pulvérisation qui a été développé pour fournir une technologie de dépôt de couches minces de haute qualité. Il est réputé pour ses excellentes performances, sa précision et sa précision en termes de couches de film produites. Il est composé d'une chambre de pulvérisation, d'une chambre de base, d'une chambre cible, d'un moteur rotatif et d'une source de puissance d'induction. La chambre de pulvérisation permet à l'utilisateur de régler la pression et la température souhaitées du procédé, tandis que la chambre cible permet de contrôler la position du matériau cible par rapport aux substrats. Le moteur rotatif permet le positionnement précis du matériau cible dans la chambre pour atteindre la configuration cible optimale pour le processus de pulvérisation. La chambre de base abrite les substrats et contrôle la température et la pression du procédé. La source de puissance d'induction est utilisée pour contrôler les courants d'ions qui transfèrent le matériau pulvérisé sur les substrats. CANON ILC 1051 est capable d'effectuer une variété de procédés de pulvérisation tels que la pulvérisation magnétron, la pulvérisation ionisée de métal et la pulvérisation par plasma d'ions métalliques. Il peut également effectuer un traitement thermique rapide. De plus, il est conçu pour accepter une variété de cibles qui comprennent, entre autres, les oxydes, les métaux réactifs, les métaux purs, les alliages, les composés du carbone et divers matériaux céramiques. ANELVA ILC-1051 est un système de pulvérisation thermique polyvalent qui convient à un large éventail d'applications de recherche, y compris la fabrication de semi-conducteurs, la production de cellules solaires à couches minces, les revêtements optiques et les applications de dispositifs médicaux. En outre, il peut être utilisé pour déposer des films conducteurs, adhésifs et protecteurs de haute qualité pour une variété de produits. Il peut également être utilisé pour le dépôt de matériaux pour divers procédés chimiques, électrochimiques et mécaniques. ILC-1051 est équipé d'une architecture ouverte, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs systèmes pour répondre à leurs besoins spécifiques. Son contrôle précis des dépôts et les sources d'énergie avancées permettent une grande précision dans l'uniformité des couches et d'excellentes propriétés du film. La flexibilité et l'adaptabilité du système en font un choix privilégié parmi les chercheurs de diverses industries.