Occasion CANON / ANELVA ILC-1080 #293830306 à vendre en France

CANON / ANELVA ILC-1080
ID: 293830306
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2003
Sputtering systems, 8" 2003 vintage.
CANON/ANELVA ILC-1080 est un équipement de pulvérisation à haute performance conçu pour le dépôt précis de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, la recherche et le développement, et d'autres applications industrielles avancées. Ce système combine une technologie innovante, des fonctionnalités d'automatisation avancées et une polyvalence exceptionnelle pour répondre aux exigences exigeantes du processus de dépôt de couches minces. L'unité de pulvérisation de CANON ILC-1080 est basée sur une méthode de pulvérisation magnétron, qui implique le bombardement d'un matériau cible avec des ions de haute énergie pour déloger des atomes ou des molécules pour le dépôt sur un substrat. Ce procédé permet le dépôt de couches minces de haute qualité avec un contrôle précis de l'épaisseur, de la composition et de la morphologie du film. Une des caractéristiques clés d'ANELVA ILC-1080 est sa conception de chambre avancée, qui offre un haut degré de compatibilité et de flexibilité des processus. La machine est équipée de multiples sources de dépôt, permettant le dépôt d'un large éventail de matériaux tels que les métaux, les oxydes, les nitrures, et plus encore. Cette flexibilité permet aux utilisateurs de créer des structures multicouches complexes et des films minces sur mesure pour diverses applications. L'outil dispose également d'une chambre à vide élevé avec un actif de pompage sophistiqué pour créer et maintenir les conditions de vide élevé nécessaires pour le dépôt de couches minces. Ceci assure un environnement de dépôt propre et stable, minimisant les impuretés et les défauts dans les films déposés. ILC-1080 est équipé d'un support de substrat de haute précision qui assure un contrôle précis de la température du substrat pendant le dépôt. Cette caractéristique est cruciale pour la croissance de couches minces avec des propriétés et des caractéristiques précises, car la température du substrat peut influencer significativement la structure et les propriétés du film. En outre, le modèle est équipé d'un équipement de contrôle de processus hautement réactif qui permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres de processus en temps réel. Cela permet un contrôle précis du processus de dépôt, assurant la reproductibilité et la cohérence de la croissance des couches minces. CANON/ANELVA ILC-1080 dispose également d'un système d'automatisation avancé pour un fonctionnement et un contrôle de processus sans faille. L'unité peut être programmée pour exécuter plusieurs séquences de dépôt automatiquement, réduisant l'intervention manuelle et améliorant l'efficacité globale du processus. En outre, la machine est équipée de dispositifs de sécurité avancés pour protéger à la fois l'équipement et les opérateurs. Des dispositifs de sécurité, des systèmes de détection des gaz et des mécanismes d'arrêt d'urgence sont en place pour assurer un fonctionnement sûr et prévenir tout danger potentiel pendant le processus de dépôt. Dans l'ensemble, l'outil CANON ILC-1080 offre une combinaison de technologie de pointe, de flexibilité, de précision et de fiabilité pour les applications de dépôt en couches minces. Qu'il soit utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, dans des laboratoires de recherche ou dans des environnements industriels, cet atout offre une solution polyvalente et performante pour créer des films minces sur mesure avec une qualité et un contrôle exceptionnels.
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