Occasion CANON / ANELVA SPC-530H #9111247 à vendre en France

CANON / ANELVA SPC-530H
ID: 9111247
Style Vintage: 1999
Sputtering system Nonfunctional power supply Missing internal parts 1999 vintage.
CANON/ANELVA SPC-530H est un équipement de pulvérisation à haute performance conçu pour un usage industriel. Il combine deux composants : une source de pulvérisation magnétron à base de plasma et une chambre pour créer un environnement sous vide. La source de pulvérisation magnétron à base de plasma utilise une douche électronique pour exciter un mélange gazeux d'argon et d'oxygène qui crée un plasma, fournissant une entité énergétique et uniforme pour bombarder une surface de substrat. La structure cristalline de la surface est ensuite modifiée par bombardement d'espèces atomiques. La chambre pour CANON SPC-530H est conçue pour fournir un environnement sous vide, permettant le dépôt de matière sur le substrat dans des conditions de type spatial. Avec une pression ultime de 1x10-6 Pa, la chambre est conçue avec une pompe d'appoint externe afin de maintenir l'environnement de vide désiré. En outre, la chambre est équipée d'une conduite de vide, de tuyauteries et de vannes pour assurer l'intégrité de la chambre et maintenir des performances optimales. ANELVA SPC-530H présente de multiples caractéristiques, telles qu'une source d'ions, qui aide à contrôler le dépôt de film en contrôlant l'ionisation d'un atome et d'un détecteur de puissance de source, ce qui aide à surveiller le processus et émet des réactions pour maintenir le dépôt de film désiré. En outre, SPC-530H comporte une fenêtre de surveillance du plasma, qui permet l'observation du plasma dans la chambre et permet d'affiner encore le procédé. Dans l'ensemble, CANON/ANELVA SPC-530H est un système de pulvérisation perfectionné conçu pour un usage industriel. Il combine une source de pulvérisation magnétron à base de plasma et une chambre pour fournir un environnement sous vide. L'unité est équipée de caractéristiques telles qu'une source d'ions, un détecteur de puissance de source, et une fenêtre de surveillance plasma, permettant un contrôle précis du processus de dépôt. Avec ses caractéristiques avancées, cette machine est largement utilisée dans les industries des semi-conducteurs et de l'automobile, fournissant aux utilisateurs des résultats de haute précision, fiables et rentables.
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