Occasion CANON / ANELVA SPF-313H #9279660 à vendre en France

CANON/ANELVA SPF-313H L'équipement de pulvérisation est un outil de laboratoire très avancé et polyvalent, capable de créer et de déposer une variété de films minces. Il est équipé d'une source de pulvérisation d'ions multi-sources, d'une chambre de procédé fermée, d'un plateau tournant à six substrats et d'un système de gravure multi-plasma. Cette unité est conçue pour des procédés de dépôt en couches minces de moyenne à grande surface. Il permet également aux utilisateurs de personnaliser leurs processus de dépôt, en définissant des paramètres spécifiques pour la gravure, la pulvérisation et la pulvérisation réactive. La chambre de procédé fermée abrite trois chambres à vide distinctes. La première est la chambre source de pulvérisation où est placé le matériau à déposer. Une deuxième chambre abrite le plateau de 6 substrats pour le transfert de plaquettes vers et depuis la source de pulvérisation. Une troisième chambre abrite la machine de gravure multi-plasma et les composants périphériques. La source de pulvérisation est constituée d'une source de faisceau d'ions de forte puissance. Une consommation d'ions absolument contrôlée permet de garantir des taux de pulvérisation précis et reproductibles. Une grande variété de couches simples ou multiples peut être revêtue de la puissance élevée de la source de pulvérisation du faisceau d'ions. Cette puissance est souvent essentielle pour la pulvérisation réactive de films tels que l'aluminium, le silicium et les matériaux contemporains. La table tournante du substrat a une capacité de six substrats et est conçue pour répartir uniformément le poids. Un point de pivotement à faible moment réduit les vibrations tout en augmentant la stabilité et la précision. En outre, le plateau tournant est facilement réglable et peut être utilisé avec une variété de tailles et de formes de substrat. L'outil ETCH est équipé d'une chambre à plasma à base d'hélium. Ceci est idéal pour contrôler les vitesses de gravure lors de la gravure de certains polymères, composites et même métaux. Le processus est précis, offrant une répétabilité et une fiabilité incroyables. CANON SPF-313H Sputtering Asset est un excellent choix pour les procédés de dépôt de couches minces de moyenne à grande surface. Il est conçu pour une grande variété d'applications, allant du dépôt de métal, à la pulvérisation par pulvérisation réactive, à la gravure et au placage. Sa combinaison d'une source de faisceau d'ions de grande puissance et d'une chambre à plasma d'hélium précise offre une répétabilité et un contrôle inégalés sur le processus. De plus, son grand plateau à six substrats offre stabilité et flexibilité. En bref, ANELVA SPF-313H est un choix idéal pour tout laboratoire qui a besoin d'un modèle de pulvérisation rapide et facile à utiliser.