Occasion CANON TOKKI CR 099 #9143788 à vendre en France

CANON TOKKI CR 099
ID: 9143788
RF sputtering system.
CANON TOKKI CR 099 est un équipement de pulvérisation conçu pour déposer des couches minces de matériaux sur une gamme de matériaux de pièce. Le système peut être utilisé pour divers types de procédés de dépôt par pulvérisation, y compris le dépôt physique en phase vapeur à haute vitesse, à basse pression (HRLP-PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). L'unité est alimentée par une alimentation en courant continu haute tension, et utilise ARC, EOS et C8070 Inverters pour contrôler avec précision le processus de pulvérisation. Les inverseurs ARC et EOS permettent de contrôler la température et la puissance du processus de pulvérisation de façon indépendante, tandis que le C8070 offre des capacités supplémentaires de contrôle de courant et de fréquence. La machine comprend également un outil Advanced Process Monitor (APM) qui surveille et enregistre les paramètres du processus. CR 099 comprend trois chambres différentes : une chambre à vide principale, une deuxième chambre de chauffage et une troisième chambre de refroidissement. La chambre principale a un volume de travail de 2,1m3 et une plage de pression de fonctionnement de 1,0 à 2,0 Pa. À l'intérieur de la chambre principale, une source rotative de pulvérisation magnétron est utilisée pour pulvériser le matériau cible sur la pièce. Les deuxième et troisième chambres sont équipées respectivement de systèmes de chauffage et de refroidissement, et servent à contrôler la vitesse de dépôt et la température du matériau pulvérisé. En outre, l'actif comprend un modèle de chargement automatique qui permet au processus de pulvérisation de fonctionner en continu sans avoir besoin de travail manuel. L'équipement est équipé des dispositifs de sécurité nécessaires, tels qu'une limite de pression et des fonctions de protection thermique. CANON TOKKI CR 099 est capable de produire des films d'une épaisseur allant de 0,3 à 40µm, avec une impressionnante uniformité de +/- 5 %. Le système est également conçu pour une grande variété de compositions de matériaux, y compris les métaux, la céramique et les polymères. Il offre également un large éventail de paramètres de procédé, y compris la vitesse de dépôt, la distance par rapport à la pièce et la puissance unitaire. Globalement, la machine à pulvériser CR 099 est une solution fiable et efficace pour le dépôt de couches minces. En conséquence, il est largement utilisé dans une variété d'industries, allant de la fabrication de semi-conducteurs, cellules photovoltaïques, et la production d'affichage, à des applications médicales et optiques.
Il n'y a pas encore de critiques