Occasion CVC 2800 #9054640 à vendre en France

ID: 9054640
Cluster tool Loadlock chamber: ion mill ~50A/min Heater chamber: HAS, ~250ºC Chamber 1, (3) targets: Titanium Ti-W: 10% wt Titanium to 90%wt Tungsten Copper RF Power supply: HAS 1 Chamber 2, (3) Targets: Copper doped Aluminum, 5%wt Tantalum Tantalum RF power supply: HAS 1 Process gas: (3) mass flow controllers: argon, nitrogen, oxygen Includes: (3) CTI 8 Cryo pumps and compressors Mechanical vacuum pump: Alcatel M2033 Substrate handling options: 6" round substrate pallet capable of holding (8) substrates 8" round substrate pallet capable of holding (6) substrates Customized 8" to 6" Adaptable Pallet for Edge Protection.
Le CVC 2800 est un système de dépôt en ligne ultra-performant de Cambridge Vacuum Coatings. L'unité est conçue pour le dépôt d'une grande variété de matériaux sur de nombreux substrats. Il utilise une approche de conception modulaire qui permet une personnalisation facile au besoin pour l'intégration de processus et l'automatisation. La machine centrale de manipulation de l'outil 2800 est composée de deux chambres de pulvérisation et d'une chambre de revêtement. Chaque chambre de pulvérisation est équipée de quatre sources magnétron et de quatre substrats pour maximiser la vitesse et le débit de dépôt. La chambre de revêtement est équipée d'une chambre d'oxydation thermique pour améliorer le contrôle de la température du substrat et optimiser la croissance des couches minces. Le plasma est généré dans la chambre de pulvérisation à travers un actif filamentaire apparié dans la source cathodique. Cela génère un canon à électrons qui accélère les électrons vers la source d'anode, créant une décharge de lueur. Dans la chambre de revêtement, le plasma haute densité est généré par une alimentation en tension télécommandée qui laisse une couche chaude de molécules ionisées à côté du substrat. Le matériau pulvérisé se condense alors sur le substrat. CVC 2800 modèle de pulvérisation est équipé de plusieurs caractéristiques qui le rendent apte à être utilisé dans diverses applications de revêtement. Ceux-ci comprennent des couches d'automatisation faciles à utiliser sur le dessus de la commande manuelle de chambre à chambre, la commande automatique des paramètres du substrat et de la source cathodique, une suite de mesures polyvalente, et une large gamme de matériaux qui peuvent être déposés. En outre, 2800 équipements sont capables de fonctionner sous vide élevé et à des vitesses de pompage rapides. Toutes ces caractéristiques font du système de pulvérisation CVC 2800 le choix idéal pour obtenir un dépôt en couche mince avec une précision, une répétabilité et un débit élevés. Cela fait de l'unité le choix idéal pour de nombreux dépôts industriels tels que les dispositifs médicaux, les capteurs, les écrans et l'optoélectronique.
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