Occasion CVC 2800 #9185093 à vendre en France

CVC 2800 est un équipement de pulvérisation hautement sophistiqué qui est utilisé pour le dépôt de couches minces sur des substrats de presque n'importe quel matériau, des semi-conducteurs aux matériaux optiques. Cette technique est utilisée principalement en nanofabrication, ainsi qu'en recherche et développement. La principale composante du système est la source de pulvérisation, qui utilise le gaz comme conducteur électrique pour bombarder un matériau cible avec des électrons. Ce bombardement provoque la vaporisation du matériau cible, puis le dépôt des particules vaporisées sur le substrat sous atmosphère contrôlée. La source de 2800 se compose de deux corps distincts, le haut du corps et le bas du corps. Le haut du corps contient une cible, tandis que le bas du corps contient l'alimentation en gaz et le conditionneur de puissance. Le matériau cible est choisi en fonction du type de dépôt souhaité. Il s'agit généralement d'une combinaison de métaux comme le magnésium, le titane, le chrome et l'aluminium. Il peut également incorporer d'autres métaux tels que le cuivre, le zinc et l'or. Selon le matériau du substrat, différents matériaux cibles peuvent être utilisés. Par exemple, pour un substrat électriquement conducteur comme un semi-conducteur, le titane pourrait être utilisé comme matériau cible. CVC 2800 est compatible avec plusieurs types de substrats, dont le silicium, le verre et les métaux. L'unité est bien adaptée pour créer des films multicouches d'épaisseur variable sur un seul substrat. Ceci est dû à la capacité de pression variable de la machine, qui permet un meilleur contrôle de la vitesse de dépôt des films. L'outil est capable de diverses techniques de pulvérisation, y compris des dépôts à haut débit et à bas débit. L'actif dispose également d'un manomètre intégré et d'un contrôle réglable du débit de gaz pour aider à maintenir les taux de pulvérisation. De plus, le modèle peut fonctionner en mode semi-continu ou en mode multi-étapes. Pour obtenir des performances optimales, il faut nettoyer et entretenir régulièrement 2800. Il s'agit notamment de nettoyer les faces cibles, qui peuvent se colmater avec des résidus de dépôt au fil du temps. L'équipement doit également être étalonné régulièrement pour s'assurer que les taux de dépôt sont corrects. Dans l'ensemble, CVC 2800 est un système de pulvérisation puissant et fiable qui peut aider à créer des films minces de haute qualité sur presque n'importe quel substrat. Les paramètres réglables de l'unité peuvent être affinés pour chaque application individuelle et sa compatibilité avec un large éventail de matériaux de substrat en fait un excellent choix pour tout laboratoire de recherche et développement ou toute installation de nanofabrication.