Occasion CVC 601 LL #135391 à vendre en France

ID: 135391
Style Vintage: 1980
Load lock with RF Etch For conversion of CVC 601 sputtering system to load lock Specifications: Chamber top plate assembly and hoist Heavy duty hoist Load lock chamber with cassette Roughing manifold RF Etch assembly with matchbox Rotostrate titanium table with pallets 1980 vintage.
CVC 601 LL est un équipement de pulvérisation sous vide qui est construit pour une variété d'applications de dépôt en couches minces. Il est principalement utilisé pour le dépôt de métaux, de diélectriques et de nitrures, ainsi que d'oxyde et d'autres composés. Il présente toutes les caractéristiques nécessaires pour des applications complexes en couches minces, de la recherche-développement à la production à petite ou moyenne échelle. 601 LL utilise un système de revêtement haut de gamme en carbone diamant (DLC) avec pulvérisation à sources multiples avancée et recuit thermique rapide. Il a une architecture de puissance distribuée avec une alimentation numérique avancée de pulvérisation qui a une capacité de direction réglable pour fournir une concentration plasmatique continue tout en permettant le contrôle précis de la composition du matériau. Il utilise un circuit efficace de suppression d'arc de faible puissance qui détecte les conditions de l'arc et les supprime immédiatement. La chambre principale de l'unité est en alliage d'aluminium et est conçue pour un fonctionnement facile même dans des conditions extrêmes. Il est équipé d'une chambre à vide pour un dépôt en couches minces de haute qualité et des temps de pompage rapides. Un codeur intégré est placé sur la porte pour un contrôle précis du débit d'argon et de la fermeture de la chambre. Il est également équipé d'un écran OLED pour surveiller les conditions de la chambre et effectuer des réglages en temps réel. Le CVC 601 LL offre des caractéristiques uniques telles qu'une machine de détection d'arc avancée, une plage de puissance réglable avec un courant de crête jusqu'à 20A, et un contrôle automatique de position de support de substrat pour un revêtement uniformément réparti. L'outil offre une large fenêtre de traitement pour une variété de matériaux allant de l'aluminium à l'or et d'autres alliages exotiques. 601 LL a un atout latéral de livraison de gaz qui permet le dépôt de matières hautement réactives telles que les oxydes et les nitrures. Il offre une large couverture de surface et un modèle de contrôle de l'uniformité pour produire des films minces de haute qualité avec un minimum de déchets. En outre, CVC 601 LL est un équipement fiable qui est soutenu par un système optique-acoustique innovant capable de fournir visuellement et auditivement des conditions de contrôle de processus précises, ainsi que des diagnostics embarqués et un enregistreur de données matériel. Il dispose également d'une unité de nettoyage des pulvérisateurs améliorée et d'un revêtement de résistance sans hydrogène pour des performances supérieures.
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