Occasion CVC AST 400 #126819 à vendre en France

CVC AST 400 Sputtering Equipment est un nouveau système révolutionnaire pour le revêtement d'objets avec une variété de matériaux. Il se compose d'une chambre à vide élevé, d'un câblage cathodique et de contacts, d'une source d'alimentation RF RF et d'une unité centrale de pompage à vide. La machine à pulvériser AST 400 est capable de déposer des couches minces de métal ou d'autres matériaux sur divers substrats. La chambre à vide du CVC AST 400 est conçue pour fournir un environnement d'ultra-vide pour le procédé de pulvérisation, permettant de déposer sur le substrat des couches minces de matériau sans endommager le substrat. La chambre est équipée de vannes à vide élevé et à cyclage rapide et peut atteindre une pression de base de 0,001 torr. La chambre dispose également d'un outil de mélange de gaz actionné par algorithme pour un meilleur contrôle du procédé de pulvérisation. Le générateur RF à haut rendement de l'actif fournit une source d'énergie RF contrôlée et réglable qui peut être utilisée pour faire varier le taux de dépôt de matière, en fournissant des épaisseurs de couche précises. Le générateur est équipé d'un amplificateur à forte descente, à faible bruit pour s'assurer que la puissance RF est constante et maintenue à un niveau constant pendant la pulvérisation. Le modèle est complet avec un équipement central avancé de pompage à vide qui assure la chambre à vide maintient une pression optimale pour une pulvérisation efficace. La pompe à vide est constituée d'une pompe turbo-moléculaire de haute précision avec un débit réglable qui est capable d'atteindre des pressions jusqu'à 0,001 torr. Le système de pompage est conçu pour réduire le temps et les coûts de maintenance. Globalement, l'AST 400 Sputtering Unit est une machine révolutionnaire pour déposer des couches minces de matériaux sur une variété de substrats. L'outil est conçu pour fournir des résultats supérieurs tout en réduisant les coûts d'entretien et le temps. Son générateur RF à haut rendement assure des résultats de pulvérisation cohérents tandis que l'actif central de pompage à vide assure le maintien d'une pression optimale.