Occasion CVC CVC 2 #9124375 à vendre en France

CVC CVC2 est un équipement de pulvérisation utilisé pour déposer des couches minces de matière sur des substrats. Il s'agit d'un système de pulvérisation à trois sources, ce qui signifie qu'il possède trois sources de dépôt indépendantes. Il est capable d'un large éventail de fonctions, ce qui le rend utile pour de nombreuses applications différentes. L'unité comprend un corps principal et jusqu'à trois sources de dépôt supplémentaires. Chaque source est reliée au corps principal par l'intermédiaire d'un bras souple. Ceci permet une certaine souplesse lors du dépôt de matière sur des substrats. Le corps principal abrite une unité de contrôle qui permet un contrôle précis des paramètres de dépôt. Les contrôleurs sont programmables permettant à l'utilisateur d'adapter le dépôt à ses besoins. Avant de déposer du matériau sur un substrat, une chambre à vide doit être cyclée pour assurer un environnement approprié pour le dépôt. La chambre peut être cyclée au moyen d'une combinaison de pompage et de chauffage, en fonction des besoins en vide de l'utilisateur. Les trois sources de dépôt sont le magnétron, l'arc et le faisceau électronique. La source magnétron utilise un aimant solénoïde et des cibles de pulvérisation pour ioniser des molécules de gaz et déposer un mince film de matière sur des substrats. La source d'arc utilise une bobine d'induction et une source de radiographie électronique pour ioniser et pulvériser du matériau. La source de faisceau électronique utilise un canon à électrons pour pulvériser du matériau et former un film mince sur un substrat. En plus des sources, la machine CVC2 est également équipée de plusieurs autres composants pour assurer le bon fonctionnement. Ces composants comprennent un loadlock, une table à mandrin, un porte-échantillon, une vanne à vide, un orifice de visualisation pour surveiller le processus, une pompe d'évacuation, un injecteur de gaz et un refroidisseur d'eau. L'outil CVC CVC 2 est très adaptable et peut être utilisé pour diverses applications à vide. Par exemple, il peut être utilisé pour des applications de contact électrique, telles qu'une résistance à couches minces. En outre, l'actif peut être utilisé pour le dépôt de matériaux sur des plaquettes de silicium pour la fabrication de MEMS et IC, ainsi que pour la pulvérisation de couches minces de sulfure de zinc et de nitrure de silicium pour l'optique. En conclusion, CVC2 est un modèle robuste de pulvérisation à trois grappes sources, capable de déposer une variété de matériaux sur des substrats. Il est très adaptable et peut être utilisé pour une variété d'applications. Avec ses multiples sources de dépôt et divers autres composants, il est l'un des systèmes les plus efficaces et les plus fiables pour la pulvérisation de matériaux.