Occasion CVC ICS 660 #135722 à vendre en France
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ID: 135722
Ion cleaning accessory for substrate cleaning
Designed for use with CVC 2800 / 611 / 601 sputtering systems
Beam diameter: 7.5"
Neutralized ion beam - plasma divergence
Includes:
Housing with adapter flange for CVC 2800
Grid assembly with mounting hardware
Feed throughs for neutralizer and grid power
Neutralizer hardware
ID 3500 power supply
High-voltage cover with water and gas hardware
Cables.
Le CVC ICS 660 est un équipement de pulvérisation magnétron à courant continu (DC) utilisé pour déposer des couches minces de divers revêtements sur des substrats. Ce système de pulvérisation combine un pistolet à haute performance, avec une combinaison unique de montures de pistolet, qui sont conçus pour fournir une couverture de substrat supérieure et une durée de vie inégalée dans les applications de haute puissance. L'unité est alimentée par une alimentation en courant continu avec des réglages de tension et de courant réglables séparément pour chaque canon. ICS 660 dispose d'une grande variété d'aimants, y compris des aimants rectangulaires et circulaires, qui permettent d'ajuster le processus de pulvérisation. La machine est basée sur le procédé de pulvérisation magnétron tournante (RMS), dans lequel un canon à magnétron de forte puissance est monté sur une plate-forme tournante entre le substrat et un aimant de source tournante. Ce type d'outil de pulvérisation produit une répartition uniforme du matériau sur le substrat, et présente plusieurs avantages par rapport aux systèmes de pulvérisation planes plus traditionnels. Plus important encore, les aspects rotatifs de l'actif permettent le dépôt uniforme de couches minces sur toute la surface du substrat. Ce procédé de dépôt uniforme élimine les dépôts en points morts près des bords du substrat, ce qui peut produire une épaisseur de couche non uniforme. Le CVC ICS 660 comprend également une variété de fonctionnalités avancées. Le montage rotatif du canon permet des réglages précis de l'angle de pulvérisation pour assurer une couverture optimale du substrat. De plus, les manomètres réglables permettent aux utilisateurs de réajuster la pression en fonction des exigences de chaque application. Le modèle est également équipé de capteurs intelligents qui peuvent détecter quand le pistolet à pulvérisation est sur le point de perdre du matériau cible, et ajuster automatiquement les paramètres du processus afin de maintenir une vitesse de dépôt facile et cohérente. ICS 660 produit des films minces de haute qualité pour diverses applications industrielles, allant de la microélectronique à l'aérospatiale. Utilisant les alimentations en courant continu et le procédé RMS, CVC ICS 660 fournit un dépôt uniforme de métal, d'oxyde métallique et d'autres matériaux en couches minces sur pratiquement n'importe quelle taille ou forme de substrat. Ses caractéristiques avancées garantissent un haut degré de précision et de fiabilité, tout en permettant à l'utilisateur d'affiner le processus de dépôt pour répondre à ses besoins spécifiques.
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