Occasion DENTON VACUUM DESK II #293618089 à vendre en France

DENTON VACUUM DESK II est un équipement de pulvérisation compact et convivial pour le dépôt de couches minces. Il s'agit d'un système de dépôt sous vide conçu pour des applications de dépôt de films à haute performance, y compris le dépôt cathodique en arc, la pulvérisation par faisceau d'ions, le dépôt physique en phase vapeur et le dépôt réactif par pulvérisation. L'unité dispose d'une large gamme de configurations de substrat et de paramètres de processus tels que la pression de travail, la température et le matériau cible. Il est facile à utiliser et à entretenir, et permet aux utilisateurs de changer rapidement les substrats, les matériaux cibles et les paramètres pour répondre aux besoins de leur processus spécifique. La chambre de pulvérisation de DESK II a une construction en acier inoxydable soufflet et dispose d'un design en trois pièces qui permet un accès facile à la fois à la source et les porte-cibles. Le porte-source est capable de loger des substrats jusqu'à 12 po de diamètre et le porte-cible peut accueillir jusqu'à 20 po de diamètre. La machine peut traiter des températures comprises entre -20 ° C et + 400 ° C, et offre une large gamme d'espèces gazeuses, des pressions allant jusqu'à 400 mTorr. Il fournit un environnement de vide supérieur avec une plage de pression de 10-4 à 10-7 mTorr. L'outil est équipé d'un panneau de contrôle et d'une interface utilisateur graphique qui permet aux utilisateurs de contrôler et de surveiller l'actif depuis un endroit distant. Il est également équipé de caractéristiques de sécurité avancées qui assurent le fonctionnement sûr du modèle. Il dispose également d'un équipement de diagnostic embarqué qui permet aux utilisateurs de dépanner tout problème pouvant survenir pendant le processus de dépôt. DENTON VACUUM DESK II est conçu pour optimiser la disponibilité du système et fournir des résultats fiables et reproductibles. Il s'agit d'une unité polyvalente capable de traiter un large éventail de procédés et de matériaux de dépôt. Il est idéal pour le haut débit et le dépôt de couches minces sur une variété de formes et de tailles de substrat. La machine est conçue pour offrir une stabilité de processus supérieure et des performances fiables.