Occasion DENTON VACUUM DESK II #9179222 à vendre en France

DENTON VACUUM DESK II est un équipement de pulvérisation thermique conçu pour des besoins de revêtement scientifique de haute performance, en particulier pour des applications de recherche et développement et de métrologie. Il offre une solution supérieure pour le dépôt en couches minces sur des substrats comme le verre, la céramique et les métaux. Il est conçu avec une multitude de caractéristiques qui lui permettent d'appliquer avec précision des films ultra-minces sur un substrat avec un profil d'épaisseur précis. Le système utilise un gaz ionisé, appelé gaz pulvérisateur, qui est propulsé par un champ électrique entre l'anode et la cathode de l'unité. La cathode est constituée du substrat d'échantillon et du matériau cible, typiquement en platine, en or ou en alliage. Lorsque le champ électrique est activé, les atomes de gaz pulvérulents du matériau cible sont accélérés par le champ à travers le substrat et déposés à la surface de l'échantillon sous forme de films métalliques. Le processus de dépôt en couches minces de la machine est précisément contrôlé et surveillé par le biais du contrôle informatique en boucle fermée (CLCC). CLCC contrôle la vitesse d'exposition du substrat au gaz pulvérisateur, en conservant une épaisseur constante et donc en obtenant une reproductibilité parfaite. De plus, l'outil CLCC sophistiqué aide à automatiser l'ensemble du processus de réglage des paramètres, du nettoyage du substrat aux instructions de fin de processus. L'actif est équipé de systèmes de sécurité de pointe pour assurer un environnement de travail sûr pour les opérateurs. Il s'agit notamment du modèle d'isolation par faisceau d'ions (IBIS), qui désactive automatiquement le champ électrique entre l'anode et la cathode lorsque la porte de l'équipement n'est pas correctement fermée, et de l'accélération et de la décélération contrôlées de la pompe à vide pour assurer le chargement et le déchargement en toute sécurité des substrats. DESK II est conçu avec une interface utilisateur conviviale et une large gamme de fonctionnalités supplémentaires. Il comprend un système d'enregistrement des données, une commande manuelle de la vanne, un support d'outillage et un certain nombre de fonctions de stockage et de rappel intégrées. L'unité est fiable, efficace et facile à utiliser, offrant des résultats optimaux en matière de dépôt de couches minces. Ses performances avancées et ses systèmes de sécurité le rendent idéal pour les applications scientifiques de revêtement de haute performance.