Occasion DENTON VACUUM DESK II #9199103 à vendre en France

DENTON VACUUM DESK II (DV2) est un équipement de pulvérisation conçu pour être utilisé en laboratoire ou dans l'environnement industriel. Il est conçu pour déposer rapidement des matériaux en couches minces sur des substrats dans un environnement sous vide. Le système est une installation bi-magnétron qui peut déposer plusieurs matériaux sur un seul substrat dans un seul procédé. Le DV2 est capable de délivrer des taux de dépôt de couches minces extrêmement uniformes sur une gamme de températures avec des résultats reproductibles. L'unité est alimentée par une alimentation de 110 volts et utilise un variateur de fréquence pour moduler la sortie de puissance de l'alimentation aux magnétrons. Ceci permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt et de l'épaisseur résultante du film déposé. La machine est capable de délivrer des pressions de vide allant jusqu'à 760 torr, nécessaires à de nombreux processus physiques de dépôt en phase vapeur. Le DV2 comprend deux sources déposées pour déposer des matériaux individuellement ou en combinaison. Les deux sources peuvent être séparées par des distances réglables jusqu'à 2,5 mètres et peuvent délivrer des taux de dépôt jusqu'à 25nm/minute. Le DV2 présente un support de substrat variable pour substrats plats et cylindriques. La température de la surface du substrat est contrôlée par un module de régulation de température et peut être réglée de -60 ° C à 500 ° C Le DV2 comprend une chambre de four entièrement accessible dans la partie inférieure de l'outil. Cette chambre atteint des températures allant jusqu'à 1000 ° C et est utilisée pour chauffer la chambre à vide à des températures plus élevées pour les procédés de recuit. La partie supérieure du bien comporte une chambre évacuée et est accessible par une porte. Cette porte permet l'installation d'une source d'ions, qui peut être utilisée pour pulvériser des métaux, des oxydes et d'autres matériaux sur des substrats. En termes de sécurité, le modèle DV2 comprend une porte de protection pour réduire le risque d'exposition aux températures extrêmes de la chambre. De plus, la source d'ions est équipée de dispositifs de protection contre les rayonnements afin de prévenir l'exposition accidentelle aux rayonnements ionisants. Dans l'ensemble, DESK II est un puissant équipement de pulvérisation conçu pour le laboratoire ou l'environnement industriel. Il est capable de déposer plusieurs matériaux sur un seul substrat avec des vitesses de dépôt extrêmement uniformes. Le système est équipé de fonctionnalités pour assurer une utilisation sûre et des résultats fiables.