Occasion DENTON VACUUM DESK II #9224511 à vendre en France

DENTON VACUUM DESK II (VD2) est un équipement automatisé de dépôt de pulvérisateurs de chambre à vide conçu pour le dépôt complexe de couches minces sur une variété de substrats. Ce système est un outil précieux pour la réalisation de processus de revêtement spécifiques à l'application, car il est idéal pour un travail de dépôt de couche mince de précision avec une précision et une reproductibilité inégalées. Le VD2 est construit de trois modules principaux : un poste de contrôle, une chambre source et une chambre de traitement. Chacun de ces modules est conçu avec la sécurité de l'utilisateur et la facilité d'utilisation à l'esprit. La station de contrôle permet l'installation de session, la cartographie graphique des tâches, et la capacité de surveiller les dépôts en cours. Cette station utilise une interface à écran tactile facile à utiliser, permettant à l'utilisateur de faire fonctionner l'unité avec un minimum d'entraînement. La chambre source contient deux chambres cylindriques reliées par une traversée sous vide ; une chambre abrite une source de gaz inerte comme l'Argon, tandis que l'autre est utilisée pour le chauffage des substrats. Un seul porte-substrat rotatif est utilisé pour transporter des échantillons individuels à travers la chambre de passage sous vide. La chambre de procédé est constituée d'une chambre cylindrique contenant deux sources de pistolet électrostatique commandées indépendamment, deux aimants et une seule source de pulvérisation RF. Ces composants sont conçus pour maximiser l'homogénéité de la couche mince composant le film déposé sur le substrat. La chambre de procédé comprend également un support de substrat refroidi pour maintenir les températures du procédé, ainsi qu'un manomètre à cristaux de quartz pour le contrôle en temps réel de la pression de la machine, permettant à l'utilisateur d'effectuer les réglages nécessaires au bon fonctionnement de l'outil. Le VD2 permet à l'utilisateur de générer des films minces de haute qualité avec des caractéristiques aussi petites que 0,1 μ m. Cette polyvalence le rend adapté à toute une gamme d'applications, allant de la fabrication de dispositifs et de la fabrication de nanomatériaux au diagnostic médical et à la métrologie. L'actif est également équipé d'une variété de gaz sources, ce qui le rend adapté à une gamme de matériaux, tels que les métaux, les semi-conducteurs, les polymères, les oxydes et les nitrures. Le VD2 offre également l'avantage de procédés de dépôt hautement reproductibles, en maintenant la qualité et la reproductibilité des procédés sur une grande échelle de substrats et d'applications. Cela garantit une qualité de produit final fiable et cohérente, essentielle pour la précision des tâches de dépôt de couches minces. Le VD2 est un modèle de pulvérisation perfectionné et convivial qui peut être facilement intégré dans n'importe quel laboratoire de prototypage ou de recherche. Avec sa conception avancée et son large éventail d'options, cet équipement de dépôt sous vide offre une précision et une répétabilité supérieures dans la technologie de dépôt en couches minces.