Occasion EDWARDS S150B #293809357 à vendre en France
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ID: 293809357
Sputter coater
Boro silicate glass
Implosion guard
Water cooled copper specimen table, 4"
Sputtering rate: 60 nm per minute
E2M2 Rotary vane pump
Automatic reset
(4) Cathodes
Vacuum measurement:
Pirani 10 Control unit: 5 mbar
PR 10-K Gauge head
Power supply: 220~240 V, 5 Phase, 50 Hz.
EDWARDS S150B est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour le dépôt de couches minces dans des applications avancées de fabrication de semi-conducteurs, d'optique et d'électronique. Ce système offre une technologie de pointe et des performances exceptionnelles pour répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de dépôt de couches minces. EDWARDS S 150 B utilise une technique de pulvérisation magnétron pour déposer des films minces de divers matériaux sur des substrats avec une grande précision et uniformité. La pulvérisation magnétron est un procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans lequel un matériau cible est bombardé d'ions de haute énergie, provoquant l'éjection d'atomes et le dépôt sur un substrat pour former un film mince. Une des caractéristiques clés de S150B est son unité de vide avancée, qui fournit un environnement de vide élevé essentiel pour obtenir des films minces de haute qualité avec une excellente adhérence et uniformité. La machine à vide comprend des pompes turbomoléculaires à haute performance, des pompes cryogéniques et d'autres composants pour assurer une basse pression de base et une évacuation efficace des gaz pendant le processus de dépôt. La chambre de pulvérisation de S 150 B est conçue pour une polyvalence maximale et une facilité d'utilisation, avec une configuration personnalisable pour accueillir différentes tailles et formes cibles. La chambre est équipée de systèmes de surveillance et de contrôle des processus in situ afin d'optimiser les paramètres de dépôt et d'assurer des propriétés de film cohérentes sur plusieurs parcours. EDWARDS S150B dispose de sources magnétron de pointe qui fournissent une efficacité d'utilisation de cible élevée et des débits de pulvérisation uniformes sur la surface du substrat. Les sources magnétron peuvent être facilement configurées pour des procédés réactifs de pulvérisation, permettant le dépôt de couches minces composées avec un contrôle stoechiométrique précis. Pour accroître la flexibilité et la productivité des processus, EDWARDS S 150 B est équipé d'un outil d'automatisation sophistiqué qui permet un fonctionnement basé sur les recettes, un suivi en temps réel des paramètres des processus et des capacités de télécommande. Cet atout d'automatisation permet aux utilisateurs d'établir et d'exécuter facilement des processus de dépôt complexes avec une intervention manuelle minimale, ce qui permet d'améliorer la répétabilité et l'efficacité des processus. En plus de ses capacités techniques avancées, S150B est conçu avec des fonctionnalités conviviales pour rationaliser la maintenance et les tâches de dépannage. Le modèle comprend des outils complets de diagnostic et de déclaration des erreurs afin de cerner et de résoudre rapidement les problèmes, de minimiser les temps d'arrêt et de maximiser le temps de disponibilité de l'équipement. Dans l'ensemble, le système S 150 B est un outil polyvalent et fiable pour le dépôt de couches minces dans des environnements de recherche et de production. Ses capacités avancées, ses performances supérieures et sa conception conviviale en font un choix idéal pour les applications nécessitant un contrôle précis des propriétés des couches minces et une excellente répétabilité des processus.
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