Occasion EMITECH / EDWARDS K575X #293608604 à vendre en France

EMITECH/EDWARDS K575X est un équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Il est composé de quatre composants principaux : une alimentation haute performance, une source d'ions, une optique ionique et une chambre à vide. L'alimentation fournit la tension nécessaire, jusqu'à 5 kilovolts, pour créer un panache de plasma contenant des ions et des électrons. La source d'ions est un réseau d'électrodes coaxiales à décharge brillante, qui fournissent un champ plasma uniforme avec une basse pression et une faible émissivité. L'optique ionique, constituée d'une grille interne et externe, est utilisée pour filtrer les ions et assurer un bombardement ionique uniforme du substrat. La chambre à vide est étanche et conçue pour maintenir une atmosphère désirée et contenir tout le matériau pulvérisé pendant le processus de dépôt. Le système EMITECH K575X est capable de déposer divers matériaux, notamment des métaux, des oxydes, des nitrures et des alliages. Des couches métalliques peuvent être déposées à des taux de dépôt élevés pour un dépôt rapide et économique de couches minces. Le matériau pulvérisé est très homogène et ne contient pas de trous d'épingle, de dérive ou de fissures. Les oxydes, les nitrures et les alliages peuvent être déposés à des taux plus faibles, mais avec une uniformité accrue. La chambre est conçue pour maintenir des conditions optimales de dépôt, y compris la pression, les gaz de procédé, l'écart cible et la température du substrat. La chambre est susceptible d'être contaminée, et nécessite un nettoyage régulier pour assurer un dépôt optimal du matériau désiré. L'unité peut être automatisée avec des procédés SEMI-standard, permettant une intégration facile dans les lignes de production existantes. Divers accessoires, tels que des mini-chambres, des supports de substrat et des modules de processus, sont disponibles pour des procédés spécifiques. EDWARDS K575X est une machine idéale pour fabriquer des substrats de grande surface, des films multicouches à grains fins et des revêtements précis pour diverses applications industrielles et de recherche. L'outil est également capable de générer des données très fiables, y compris l'épaisseur, l'uniformité et d'autres paramètres pour un contrôle optimal du processus de dépôt.