Occasion EMITECH / EDWARDS K575X #293608605 à vendre en France

EMITECH/EDWARDS K575X est un système de pulvérisation thermique haut de gamme utilisé pour le dépôt de couches minces de matériaux tels que les métaux, les alliages et les oxydes pour diverses applications industrielles et de recherche. Le système se compose d'une source d'énergie RF, d'une source magnétron, d'une chambre à vide et d'un régulateur de gaz de traitement. La source d'énergie RF est une source d'énergie solide de haute puissance avec une fréquence de 13,56 MHz et une puissance de sortie maximale de 35 kW. Cela permet un contrôle précis de l'épaisseur et des paramètres de revêtement prescriptifs sur de grandes surfaces. La source magnétron utilise des aimants permanents pour contrôler la forme du plasma et dispose d'une alimentation électrique réglable et d'un contrôle d'accord pour contrôler les paramètres du plasma. Cela permet d'obtenir un dépôt uniforme du matériau cible sur la grande surface. La chambre à vide est construite en acier inoxydable et a une capacité de 2 m3, avec une pression de base inférieure à 5x10-5 mbar. Il est compatible avec plusieurs types de substrats, y compris des substrats plats ou cylindriques, avec une taille de substrat jusqu'à 200mm de diamètre. Il comprend également une entrée et un échappement de gaz, permettant d'ajouter un gaz réactif lors du processus de pulvérisation pour améliorer les propriétés du film. Le régulateur de gaz de procédé permet de régler la pression de gaz de procédé, qui peut être rapidement surveillée à l'aide d'un jauge en ligne. Ceci permet un contrôle précis des paramètres de procédé nécessaires à l'obtention des propriétés pelliculaires souhaitées. En outre, il dispose d'une double fonction de zone, permettant d'appliquer des paramètres différents à des zones de substrat différentes dans la même course. EMITECH K575X est un système de pulvérisation puissant et très polyvalent avec de nombreuses fonctionnalités qui permettent un processus de pulvérisation efficace et précis. Elle peut être utilisée dans des applications de recherche et industrielles, telles que le dépôt de couches minces pour dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques.