Occasion EMITECH / EDWARDS K750 #293637250 à vendre en France

EMITECH/EDWARDS K750 est un équipement de pulvérisation utilisé pour déposer des films minces sur des substrats. Il s'agit d'un système tout-en-un qui comprend une source de plasma, des composants pour contrôler la vitesse de dépôt, et une unité de contrôle de pression pour créer un vide. Les composants internes sont commandés par un affichage numérique et alimentés par un PLC (programmable logic controller). EMITECH K750 utilise l'énergie électrique en courant continu et se compose d'une chambre et de trois composants principaux : la cible, le porte-substrat et la région d'ionisation. La cible est constituée du matériau pulvérisateur et est montée sur la paroi de la chambre avec un champ magnétique. Le porte-substrat sert à positionner et à supporter le substrat. La région d'ionisation contient plusieurs ions très actifs qui sont créés par un magnétron à l'intérieur de la chambre. La chambre est également équipée de plusieurs pompes à vide et vannes pour contrôler la pression dans la chambre. La source d'énergie continue est utilisée pour pulvériser le matériau cible hors de la surface cible. En pulvérisation magnétron continue, le matériau cible est bombardé d'ions créés par le magnétron. Lorsque les ions frappent la cible, il libère du matériau qui se dépose sur le substrat. La vitesse de libération de la matière pulvérisatrice peut être ajustée en contrôlant les niveaux de puissance au magnétron. EDWARDS K750 est conçu pour être utilisé dans un environnement de salle blanche et est facilement intégré dans les systèmes de dépôt automatisés. Il dispose également d'une machine à thermocouple pour un contrôle précis de la température. Cela signifie que des films minces répétables et fiables peuvent être créés dans une variété d'applications. En résumé, K750 est un outil de pulvérisation qui est utilisé pour déposer des couches minces sur des substrats. Il comporte une source d'énergie continue, une cible, un support de substrat et une région d'ionisation pour créer des ions pour le processus de dépôt. Il est conçu pour être utilisé en salle blanche et est facilement intégré dans les systèmes de dépôt automatisés. En outre, il dispose d'un contrôle précis de la température et des films minces répétables et fiables peuvent être créés dans une variété d'applications.