Occasion ENERJET KJL-HV-268-A #9122382 à vendre en France

ID: 9122382
Sputtering system Targets: Torus-10 Chamber: ~28" round vacuum, 14" H (4) Ports in floor of chamber (3 filled with Torus-10 sputtering sources) Front viewport Rear connections for rough lines and gauges Side mounting for cryo pump Chamber lid with lifter has a 8 x 4" wafer plate mounted to it on a rotary feedthru Motor connected to motor controller that spins at 0-24 RPM CTI-8 Cryo pump Compressor not included (cables & hoses included) Tool pumps to 8x10-6 in 2 hours, upper 10-7 overnight Cryo has a gate valve and a conductance control valve (multivane, micrometer at stop to throttle back pumping) (3) Sputter sources (1) Connected to DC power supply: (1) Eratron (1) RF: not connected Targets available: Al, Al/Si (0.5, 1, 2%) C, Cr, Cu, Mo, Si, SiO2, Si3N4, Ta, Ti, TiN, W, W-Ti, WC and Y in various states of use Tool has systems to run: Pump controller to control power to pumps and crossover to high vac Gauge interface and baratron, convection and ion gauges Flow controller for MFCs (100 SCCM Ar, O2, N2) that can be slaved to pressure or ratio'd Cryo controller and cryo temperature gauge Heater controller but heating element has been moved Rotation controller Water flow system, valves and flow switches Interlocked cabinet Fixturing for 4", 3" wafers (2) Chamber shields that can be cleaned (floor of chamber is only part that is not cleaned) Currently in cleanroom.
L'équipement de pulvérisation ENERJET KJL-HV-268-A est un dispositif de pulvérisation haute performance conçu pour le dépôt de couches minces d'atomes et de molécules sur les surfaces. Le système se compose d'un canon de pulvérisation multi-cathodique à trois sources, associé à une chambre à vide élevé avec une unité de régulation de pression intégrée pour contrôler l'environnement de travail de la machine. Le pistolet a une chambre intégrée pour déposer des films pulvérisés avec un support de substrat réglable qui permet une large gamme d'applications. L'outil dispose d'une chambre à vide haute innovante et avancée qui est conçue pour être efficace, sûre et facile à utiliser. Il utilise un actif de lévitation magnétique, qui équilibre dynamiquement la pression à l'intérieur de la chambre et assure un dépôt de film uniforme. Un régulateur de pression intégré à la chambre permet à l'utilisateur de contrôler avec précision et fiabilité l'environnement de travail. Les cathodes de pulvérisation délivrent des ions homogènes à faible énergie à la surface à pulvériser, évitant la production de contamination et éliminant le besoin de brûlage et de nettoyage initial du substrat. KJL-HV-268-A modèle de pulvérisation est idéal pour le dépôt d'une large gamme de métaux, d'alliages, d'oxydes et d'autres matériaux. Grâce à sa géométrie variable et à sa fréquence d'impulsion, l'équipement peut être utilisé pour couler ou graver des matériaux jusqu'à une épaisseur de quelques angströms. Le support de substrat est réglable et peut accueillir des substrats jusqu'à 12 « x 12 » de diamètre. Il est également capable de pulvériser des couches sous différents angles, permettant la réalisation de films multicouches. Le système dispose d'une interface de contrôle numérique pratique, avec des entrées pour le contrôle externe. Cela facilite l'automatisation de l'unité et son intégration dans les systèmes existants. La chambre à vide est refroidie à l'eau, ce qui permet d'économiser les coûts de fonctionnement, et dispose d'un verrou de sécurité, verrouillant la porte lorsque la chambre à vide est en fonctionnement. Il dispose également d'alarmes diagnostiques et de contrôles afin que l'utilisateur puisse prêter attention aux protocoles de sécurité lors de l'exploitation de la machine. L'outil de pulvérisation ENERJET KJL-HV-268-A offre l'ultime productivité, vitesse et précision. Avec ses caractéristiques avancées et ses performances fiables, il est un excellent choix pour le dépôt de couches minces pulvérisées de haute qualité.
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