Occasion EVATEC Radiance #293650371 à vendre en France

EVATEC Radiance est un équipement de pulvérisation ultramoderne développé par EVATEC qui combine des taux de dépôt élevés et des mesures d'uniformité exceptionnelles. L'équipement est particulièrement adapté à des applications industrielles telles que l'optique, l'affichage, la photovoltaïque, le stockage de données et le MEMS. Il est équipé de l'échangeur cible DynamiKMD breveté, de l'alimentation double source SputterFlow et du support cible Quick-ConnectMD. L'échangeur cible DynamiKMD est un échangeur cible motorisé avec un temps de cycle cible/cible de moins de 50 secondes. Cela permet un haut débit et une commutation rapide entre les cibles. L'alimentation à double source SputterFlow est conçue pour assurer des transitions de puissance en douceur lors de la commutation entre différentes cibles. Ceci améliore l'homogénéité de la couche déposée. Le support Quick-ConnectMD est conçu avec un système de montage à changement rapide et une hauteur de cible réglable. Cela facilite le montage et l'échange de cibles simples et rapides. En plus de sa conception avancée, l'unité Radiance offre également une large gamme de paramètres de processus. Cela comprend une distance cible-substrat allant jusqu'à 30 cm, une plage de puissance allant de 10W à 1500W, un certain nombre de gaz sources et une fermeture d'intervalle allant jusqu'à 150mtorr. La machine a également été certifiée pour des applications à vide ultra-élevé, offrant une pression de base de 10-7 mtorr. Ceci le rend idéal pour le dépôt de couches ultra-minces. EVATEC Radiance est disponible avec une variété de tailles de chambre et peut être utilisé manuellement ou complètement automatisé. Une source de radiofréquence (RF) facultative peut également être ajoutée, permettant une meilleure uniformité des dépôts et des taux de dépôt plus élevés. Dans l'ensemble, l'outil fournit une solution clé en main pour les processus de pulvérisation haute performance.