Occasion EVATEC Radiance #9130079 à vendre en France

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ID: 9130079
Style Vintage: 2010
Sputtering deposition system Load lock and handling system Transfer module Single target Temperature: 10-50 degree C Relative humidity: 30-80% Shared fore line pump: EDWARDS GX100L LL TMC Pump: PFEIFFER TMH261 TC TMC Pump: PFEIFFER TMH521 (2) Batch process modules (BPM) Process chamber Turn table Wafer chucks Shared Fore line pump: EDWARDS GX100L Turbo pump: PFEIFFER Highpace 2301 CTI Inline water pump Chamber conditioning unit Baratron process gas measurement gauge Base pressure: <9E-8 mbar (2) Process sources SSC 300 Planar magnetron SSC300 (1) DC Power supply 5kW (3) Mass flow controllers Rack cabinet Control system Chamber shield for each process module 80-100 A, 50 Hz, 1200 VAC 2010 vintage.
EVATEC Radiance est un équipement de pulvérisation disponible chez EVATEC, Inc. Il est conçu pour fournir une pulvérisation à haut débit pour la production de films minces. Le système de radiance utilise une méthode traditionnelle de pulvérisation par pulvérisation magnétron avec diodes et triodes. Il offre une large gamme de cibles rotatives et fixes pour les dépôts plans et cylindriques. L'unité EVATEC Radiance offre la capacité de déposer une gamme de matériaux, y compris des métaux, des alliages, des oxydes, des nitrures et des matériaux amorphes. La plage de température de production va de la température ambiante jusqu'à 400 ° C La machine à rayonnement est capable de déposer toutes les formes matérielles, telles que les films, les multicouches et les couches dispersées en vapeur. Il peut également être utilisé pour créer des caractéristiques fines et des nanostructures avec des largeurs de ligne et d'espace limitées. L'outil est adapté aux dépôts à haut rapport d'aspect et permet de positionner les cibles de dépôt de diverses manières. EVATEC Radiance offre également une technologie de capteur de pointe, qui permet un contrôle précis du débit de gaz dans la chambre de dépôt. Ceci assure une répartition uniforme du mélange gazeux à l'intérieur de la chambre. La technologie de détection avancée offre également des capacités de détection de température, qui permettent un contrôle précis de la température afin de créer des films plus uniformes. La technologie avancée des capteurs permet également un dépôt plus rapide et des débits plus élevés. Le modèle Radiance offre également des capacités de télécommande, qui permettent aux utilisateurs de contrôler et de surveiller l'équipement à distance. Cela comprend la surveillance du taux de dépôt, du temps de dépôt et du contrôle du mouvement des cibles. Le système EVATEC Radiance est également équipé d'interfaces homme-machine (HMI) qui sont utilisées pour définir des paramètres tels que les paramètres de fonctionnement, la sélection des cibles et les recettes. Dans l'ensemble, Radiance pulvérisateur offre une variété de fonctionnalités et de capacités qui le rendent idéal pour la production de films minces. Il est conçu pour des applications de production et de recherche, offrant aux utilisateurs un contrôle précis et de grandes performances.
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