Occasion FHR Line 1100 V #9257517 à vendre en France
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Vendu
ID: 9257517
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Transfer chamber
Module 5:
Process chamber 1: Etching and sputtering
Module 6:
Process chamber 2: Sputtering
Module 7:
Process chamber 3: Sputtering
Module 8: Transfer chamber
Module 9: Output load lock
Module 10: Unloading station
Substrate load / unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauges fore vacuum sensors: 1000 mbar - 10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar - 10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar - 10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
Vacuum gauges
Inverted magnetron plasma source:
Target length: ~39"
Planar sputtering cathodes:
(10) Cathodes
Target length: 39"
Target substrate distance: 4"
Rotatable sputtering cathodes:
(10) Cathodes
SCI
Type: MC-End block
Target length: 39"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
Power supplies:
High voltage power supply for inverted magnetron plasma source
DC AE Power supply: ≥1 kW
DC AE Power supply: 2 x 6 kW
DC AE Power supply: 30 kW
(5) DC AE Power supply: 2 x 10 kW
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies (PSU)
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
Voltage: 24 V.
L'équipement de pulvérisation FHR Line 1100 V est un système de revêtement polyvalent et fiable conçu pour déposer des films minces sur une variété de substrats. Il est adapté à la production d'une gamme de matériaux, y compris les métaux, la céramique, les oxydes et d'autres composés. C'est une unité très productive avec une capacité de revêtement de surfaces jusqu'à 1250 par 1100 mm. La ligne 1100 V est une chambre scellée sous vide, ce qui lui permet de maintenir le bon environnement pour produire des films de qualité supérieure. La chambre comporte une entrée et une sortie de gaz de procédé, permettant l'introduction des gaz et vapeurs nécessaires à la bonne pulvérisation. La machine est conçue avec des sorties de puissance élevées, allant de 3 à 6 kW. Il est également conçu pour une pulvérisation haute précision et répétable, avec des fonctionnalités telles que la cartographie de tension contrôlée par ordinateur et la possibilité de transférer des films en mode mono ou double composant. De plus, le 1100V est capable de réaliser des pulvérisations réactives, des pulvérisations passives, ainsi que des procédés de dépôt pour divers matériaux en flocons et en poudre. La ligne FHR 1100 V permet un contrôle fin de la quantité d'énergie qui est délivrée au substrat pendant le processus de dépôt. Des caractéristiques telles que la cartographie de tension et de courant commandée par ordinateur permettent de maintenir le processus à une précision et une répétabilité élevées lors du dépôt des couches minces. Le film pulvérisé est très uniforme en raison de la conception efficace de l'outil et des sorties de puissance qui permettent une épaisseur précise de la couche de film. L'actif offre également un modèle de contrôle puissant et intégré avec des suites logicielles avec des unités de traitement graphique et des options de programmation flexibles. Cela permet aux utilisateurs de peaufiner les paramètres du processus avec des résultats précis et des fonctionnalités telles que l'auto-surveillance en temps réel des paramètres du processus. La ligne 1100 V dispose également de diagnostics intégrés de détection des erreurs, ce qui facilite le dépannage des problèmes dans le processus. Dans l'ensemble, FHR Line 1100 V est une solution idéale pour une large gamme de procédés de dépôt en couches minces, avec des caractéristiques qui garantissent des résultats reproductibles et précis. Ses systèmes de contrôle puissants et ses performances constantes en font un équipement inestimable pour de nombreux processus de production.
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