Occasion FHR Line 1100 V #9257517 à vendre en France

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FHR Line 1100 V
Vendu
ID: 9257517
Inline sputtering system Deposition of dielectric coatings: 7° front side Modules: Module 1: Loading station Module 2: Input load lock Module 3: Buffer chamber 1 Module 4: Transfer chamber Module 5: Process chamber 1: Etching and sputtering Module 6: Process chamber 2: Sputtering Module 7: Process chamber 3: Sputtering Module 8: Transfer chamber Module 9: Output load lock Module 10: Unloading station Substrate load / unload module using (2) KUKA robots Vacuum: End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours Chambers: Stainless steel vacuum chamber Powder coated mild steel chamber frame Pneumatic gate valves Modules includes: Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K View port: DN 100 Front service flange Flap valves VAT Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h Roots pump: 1000 m³/h 1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2 Gate valves DN 250 Meissner trap with cryo generator (6) Pirani gauges fore vacuum sensors: 1000 mbar - 10^-3 mbar (8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar - 10^-8 mbar (13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar - 10^-4 mbar Upstream pressure regulation Atmospheric pressure sensors Heater Vacuum gauges Inverted magnetron plasma source: Target length: ~39" Planar sputtering cathodes: (10) Cathodes Target length: 39" Target substrate distance: 4" Rotatable sputtering cathodes: (10) Cathodes SCI Type: MC-End block Target length: 39" Backing tube diameter: 5" Target substrate distance: 4" Gas admission system: MFC for Ar each sputtering source Gas lines for 5N purity Power supplies: High voltage power supply for inverted magnetron plasma source DC AE Power supply: ≥1 kW DC AE Power supply: 2 x 6 kW DC AE Power supply: 30 kW (5) DC AE Power supply: 2 x 10 kW Control and visualization: PC Surface Operating system: Windows 7 Professional PLC General control Cooling water: Power supplies (PSU) Cathode Cathode surrounds cooled by water loops Power supplies: Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz Voltage: 24 V.
L'équipement de pulvérisation FHR Line 1100 V est un système de revêtement polyvalent et fiable conçu pour déposer des films minces sur une variété de substrats. Il est adapté à la production d'une gamme de matériaux, y compris les métaux, la céramique, les oxydes et d'autres composés. C'est une unité très productive avec une capacité de revêtement de surfaces jusqu'à 1250 par 1100 mm. La ligne 1100 V est une chambre scellée sous vide, ce qui lui permet de maintenir le bon environnement pour produire des films de qualité supérieure. La chambre comporte une entrée et une sortie de gaz de procédé, permettant l'introduction des gaz et vapeurs nécessaires à la bonne pulvérisation. La machine est conçue avec des sorties de puissance élevées, allant de 3 à 6 kW. Il est également conçu pour une pulvérisation haute précision et répétable, avec des fonctionnalités telles que la cartographie de tension contrôlée par ordinateur et la possibilité de transférer des films en mode mono ou double composant. De plus, le 1100V est capable de réaliser des pulvérisations réactives, des pulvérisations passives, ainsi que des procédés de dépôt pour divers matériaux en flocons et en poudre. La ligne FHR 1100 V permet un contrôle fin de la quantité d'énergie qui est délivrée au substrat pendant le processus de dépôt. Des caractéristiques telles que la cartographie de tension et de courant commandée par ordinateur permettent de maintenir le processus à une précision et une répétabilité élevées lors du dépôt des couches minces. Le film pulvérisé est très uniforme en raison de la conception efficace de l'outil et des sorties de puissance qui permettent une épaisseur précise de la couche de film. L'actif offre également un modèle de contrôle puissant et intégré avec des suites logicielles avec des unités de traitement graphique et des options de programmation flexibles. Cela permet aux utilisateurs de peaufiner les paramètres du processus avec des résultats précis et des fonctionnalités telles que l'auto-surveillance en temps réel des paramètres du processus. La ligne 1100 V dispose également de diagnostics intégrés de détection des erreurs, ce qui facilite le dépannage des problèmes dans le processus. Dans l'ensemble, FHR Line 1100 V est une solution idéale pour une large gamme de procédés de dépôt en couches minces, avec des caractéristiques qui garantissent des résultats reproductibles et précis. Ses systèmes de contrôle puissants et ses performances constantes en font un équipement inestimable pour de nombreux processus de production.
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