Occasion FHR Line 1100 V7 #9257514 à vendre en France
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Vendu
ID: 9257514
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Buffer chamber 2
Module 5: Sputtering pseudo reactive
Module 6: Gas separation buffer chamber
Module 7: Sputtering reactive
Module 8: Output load lock
Module 9: Unloading station
Substrate load / Unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauge fore vacuum sensors: 1000 mbar-10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar-10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar-10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
vacuum gauges
Reserve flanges
Rotatable sputtering cathodes:
(8) TiOx cathodes
SCI MC End block
Target length: 43"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
(4) MF Bipolar power supplies
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
24 V.
FHR Line 1100 V7 est un équipement de pulvérisation conçu et fabriqué par FHR. Il s'agit d'un système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) capable de déposer des couches minces de matériaux métalliques, diélectriques et/ou céramiques sur des substrats par un procédé appelé pulvérisation. La ligne 1100 V7 est conçue pour des applications industrielles et est équipée d'une variété de caractéristiques pour supporter une production à haut volume. FHR Line 1100 V7 est alimenté par un générateur qui peut produire des sorties de puissance allant de 1KW à 8KW en mode manuel ou automatique. Son unité de vide est composée de deux étages ; une pompe à rugosité pour évacuer la chambre cible et une turbomachine pour maintenir des conditions de vide élevé. Cette machine peut atteindre des pressions de 10-7 Torr dans la chambre de dépôt, avec une pression de base de 10-11 Torr. La ligne 1100 V7 peut être configurée avec un à quatre magnétrons, qui peuvent être actionnés simultanément et indépendamment. Chaque magnétron est équipé d'une cible en céramique ou en acier pour le dépôt du matériau. Cet outil peut également être utilisé pour la pulvérisation par pulvérisation réactive pour déposer des matériaux oxydes ou nitrures, ainsi que de l'oxyde d'étain d'indium (ITO) dans le cas de revêtements d'oxyde conducteur transparent (TCO). FHR Line 1100 V7 dispose d'un outil de balayage ultra précis qui peut être programmé pour enduire des substrats de différentes tailles et formes. Il peut être utilisé pour déposer des matériaux avec des épaisseurs personnalisables, avec une épaisseur maximale de couche de 25 microns. De plus, il est équipé d'un support pour plusieurs substrats. Il dispose de supports de substrat dédiés pour supporter des substrats aussi minces que 0,1 mm et jusqu'à 300mm carrés. Le modèle est également capable de contrôler la température du substrat indépendamment pour aider à ajuster des propriétés telles que la clarté optique ou la contrainte. La ligne 1100 V7 a été conçue pour la sécurité des opérateurs et la facilité d'utilisation. Sa conception modulaire le rend facile à installer et à entretenir. Pour l'entretien, FHR Line 1100 V7 dispose d'un équipement de purge automatisé qui peut évacuer rapidement la chambre des matériaux et contaminants restants. En outre, il peut être configuré avec des options de surveillance et de contrôle à distance, pour permettre le fonctionnement à distance. Enfin, le système est capable de générer des analyses détaillées, permettant une optimisation et un suivi précis des processus.
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