Occasion GILITEK IBS-1030-V2 #9395807 à vendre en France
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ID: 9395807
Ion Beam Sputtering (IBS) system
PPG 16RF Ion source
FERROTEC HSF
BROOKS On-Board 400 Cold pump
OSAKA FR060D Mechanical pump
BROOKS High and low vacuum gauge
ALICAT Flow meter
VAT High vacuum valve
ORIENTAL MOTOR Target motor
ORIENTAL MOTOR Mask drive motor
ORIENTAL MOTOR Shutter motor
Coating machine controller.
GILITEK IBS-1030-V2 est un équipement de dépôt de pulvérisateurs conçu pour la fabrication avancée de couches minces. C'est un système entièrement automatisé, avec des logiciels faciles à utiliser et des commandes matérielles. L'unité fournit des capacités de dépôt de couche mince de précision avancée, y compris une variété d'options de contrôle d'épaisseur. Il convient à une utilisation dans les applications semi-conductrices et autres couches minces. IBS-1030-V2 est équipé d'un bras robotisé à quatre axes, d'un étage X-Y et de trois sources de pulvérisation. Cette combinaison lui permet d'effectuer un dépôt directionnel avancé de pulvérisateurs. Cette machine est capable de réaliser des dépôts de couches minces dans n'importe quelle direction jusqu'à 25 microns d'épaisseur avec une précision de contrôle d'épaisseur ALD de +/- 5 % (volumétrique). L'outil est offert avec deux ou trois cibles et chacune d'elles peut être contrôlée indépendamment. GILITEK IBS-1030-V2 est contrôlé par GILITEK Graphic User Interface (GUI). Cette interface graphique est facile à utiliser et personnalisable, ce qui permet de régler des paramètres de dépôt de couches minces efficaces en appuyant sur un bouton. En utilisant cette interface, les opérateurs peuvent rapidement mettre en place des recettes de dépôt, surveiller l'état des actifs et examiner des images d'échantillons pendant la croissance. Le logiciel permet également le dépôt et l'ordonnancement basés sur des paramètres, la détection automatique du point final (AED), le contrôle du mode de contrôle du plasma (PC), le contrôle de l'épaisseur (TC), la possibilité de télécharger des images pour la surveillance du processus/application et les corrections, et la capacité de comparer les propriétés des films déposés avec une référence plate. IBS-1030-V2 dispose de gaz de dépôt ultra-purs, de pompes à vide robustes et offre flexibilité et durabilité du procédé. Le modèle a une capacité d'entrée/sortie PLC pour une répétabilité élevée des processus, une conception d'équipement multi-réfrigérant pour un contrôle fiable de la température des échantillons et un système intégré de dépôt de couches minces en forme de faisceau électronique. L'e-Beam améliore les résultats des processus grâce à une meilleure homogénéité et à des capacités de couverture élevées. En outre, l'unité offre des caractéristiques de sécurité de pointe de l'industrie et a une conception de maintenance faible. Une machine de filtration à air refroidi par air facile à installer, des volets réglables et une capacité d'arrêt à distance offrent aux utilisateurs une commodité accrue. GILITEK IBS-1030-V2 est un outil de pulvérisation perfectionné conçu pour fournir des capacités de dépôt de couches minces précises et de haute qualité pour de nombreuses applications. Cet atout est rapide, fiable et facile à utiliser, ce qui en fait un excellent choix pour les chercheurs à la recherche de dépôts de couches minces de haute précision et haute performance.
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