Occasion GILITEK IBSV-1030-V2 #9070264 à vendre en France

GILITEK IBSV-1030-V2 est une source unique de procédés physiques, chimiques et thermiques pour la recherche avancée sur les matériaux. IBSV-1030-V2 est équipé de deux alimentations électriques, d'une source de dépôt, d'un vide, d'un cryo-pompage et de quatre sources indépendantes de pulvérisation et d'évaporation. Ce système est capable de produire des films d'une épaisseur allant jusqu'à 5 000 angströms et d'une couverture conforme allant jusqu'à 80 %. GILITEK IBSV-1030-V2 utilise une chambre à haute dépression standard de 1x10 Torr et équipée d'une puissante pompe de diffusion, capable d'atteindre une pression de base de fonctionnement de 1x10-7 Torr. Un port de vision indépendant, un manipulateur à 4 voies et une unité d'équilibrage automatique permettent un contrôle et un positionnement précis à l'intérieur de la chambre. Le dépôt physique de pulvérisateurs est autorisé par les quatre sources indépendantes. Les sources sont configurées pour supporter à la fois les dépôts plans et conformes de métaux et d'oxydes. La machine est capable de réaliser des films d'épaisseurs allant de quelques Angstroms à plusieurs microns avec une adhérence supérieure sur différents substrats dont des verres silicates et des polymères. Les capacités de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont renforcées par l'introduction de la nouvelle source de vapeur. Cette source de vapeur est capable de déposer des films de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD), tels que GaN ou MoS2, ainsi que d'autres matériaux tels que des polymères et des nanotubes de carbone. Il supporte également les dépôts de sublimation et d'assistance chimique d'une variété d'autres matériaux avec régulation du flux et de la température. Les capacités thermiques sont activées via un élément de chauffage externe avec puissance et température réglables. Cela permet une variété de procédés tels que le recuit et le traitement thermique rapide. Dans l'ensemble, IBSV-1030-V2 convient à diverses applications de recherche, y compris le dépôt de couches minces, le dépôt de CVD et le traitement thermique des matériaux. L'outil est capable de produire des films de haute qualité avec une adhérence optimale et une couverture conforme. Le matériel avancé, associé à des logiciels avancés, offre un niveau de contrôle et de flexibilité exceptionnel lorsqu'il s'agit de processus complexes. Avec la capacité de soutenir une grande variété d'applications, GILITEK IBSV-1030-V2 est un atout idéal pour les établissements de recherche et les industries.