Occasion GS / LEYBOLD UNIVEX 350 G #293725240 à vendre en France

ID: 293725240
Sputtering deposition system Sputter chamber (RF and DC) Spin coater Sluice (5) GS GLOVEBOX SYSTEMTECHNIK Glovebox Sputter deposition (RF and DC) MARIS DC Generator sputter ADVANCED ENERGY / DRESSLER CESAR 136 E/600W RF Generator sputter LEYBOLD TurboVac MAG Integra Turbopump sputter LEYBOLD ScrollVac SC30 D Pump Sputter  ADVANCED ENERGY / DRESSLER VM1000/1500 Platform Matchbox AE Vario match network HEWLETT PACKARD Laptop sputter P Pro Book Control cabinet: Switch cabinet: 1x 19" Operator panel Windows compatible Pump system Vapor deposition process Orifice Media and connections: Cooling water Compressed air supply Ventilation gas Vacuum chamber: Stainless steel chamber Stainless steel: Plates, Removable, chamber walls, Ceiling doors High-vacuum pump Pressure measuring range: 1000 to 5E-10 mbar Chamber ventilation Pressure safety switch Overpressure safety Turbomolecular pump DN 200 ISO-K Electropneumatic value Levitated turbomolecular pump Pumping speed: 1100 l/s Blocking: Gas, Venting Scroll vacuum pump Nominal pumping capacity: 30 m³/h RF/DC Sputtering: Clamping targets: 4" (Indirectly water-cooled) Bond targets: 4" (Directly water-cooled) Tiltable sputtering head Electro-pneumatic Orifice Chimney Direct gas DN 160 ISO-K Flange (2) Water flow monitor Process gas inlet Gas flow regulator Substrate rotation: Rotary drive Motor Control unit Single substrate: 150mm x 150mm Bayonet fitting Power supply: 400V, 3 Phase, 50Hz, +5%/ -10%, N / PE, 16A.
GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G est un équipement de pulvérisation sophistiqué conçu pour les procédés avancés de dépôt de couches minces. Tirant parti de la technologie de pointe et de l'ingénierie de précision, ce système offre des performances et une polyvalence inégalées dans une empreinte compacte. Idéal pour la recherche, le développement et la production dans les domaines de la microélectronique, de l'optique et de la nanotechnologie, GS UNIVEX 350 G offre des films minces de haute qualité avec une homogénéité et une reproductibilité exceptionnelles. Une des caractéristiques clés de LEYBOLD UNIVEX 350 G est sa conception modulaire, qui permet une personnalisation et une évolutivité faciles pour répondre aux exigences spécifiques des processus. L'unité est constituée de plusieurs chambres de procédés, chacune dédiée à une technique de dépôt particulière, telle que la pulvérisation, l'évaporation ou le dépôt par faisceau d'ions. Cette configuration modulaire permet aux utilisateurs de configurer la machine avec la combinaison souhaitée de sources de dépôt et d'options de contrôle de processus, garantissant une flexibilité et une efficacité maximales. La chambre de pulvérisation dans UNIVEX 350 G est équipée de sources de pulvérisation magnétron de pointe capables de déposer un large éventail de matériaux, notamment des métaux, des semi-conducteurs et des diélectriques. L'outil utilise la technologie avancée de génération de plasma pour créer un plasma hautement ionisé, améliorant l'efficacité de pulvérisation et la qualité du film. De plus, GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G dispose d'un atout précis de contrôle du débit de gaz qui permet d'ajuster avec précision les paramètres du processus, assurant des propriétés de film cohérentes sur la surface du substrat. Pour un contrôle précis du procédé de dépôt, le GS UNIVEX 350 G est équipé d'un support de substrat sophistiqué qui permet un dépôt de film uniforme sur des substrats de tailles et de formes diverses. Le support de substrat peut être chauffé ou refroidi pour contrôler la cinétique de croissance du film et optimiser les propriétés du film. Associé à un modèle complet de surveillance et de contrôle des processus, LEYBOLD UNIVEX 350 G permet aux utilisateurs d'obtenir un contrôle précis des paramètres clés du processus, tels que la vitesse de dépôt, l'épaisseur du film et la composition. UNIVEX 350 G dispose également d'un équipement sous vide avancé qui assure des conditions de vide ultra-élevées dans les chambres de processus, essentielles pour le dépôt de couches minces de haute qualité. Le système est équipé d'une pompe turbomoléculaire haute performance et d'une pompe cryogénique pour l'évacuation rapide des chambres et le maintien de faibles niveaux de pression de base pendant le dépôt. L'unité à vide est entièrement automatisée et peut être programmée pour suivre des séquences prédéfinies de pompage, d'aération et de stabilisation de pression, améliorant le débit et la fiabilité de la machine. En termes d'interface utilisateur et de contrôle, GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G offre une plate-forme logicielle conviviale qui permet une programmation et un fonctionnement faciles de l'outil. L'interface graphique intuitive permet d'accéder à toutes les fonctions et tous les paramètres de l'actif, permettant aux utilisateurs d'établir des recettes de dépôt personnalisées, de suivre les progrès du processus en temps réel et d'analyser les données de dépôt après le processus. En outre, le modèle est équipé de fonctionnalités de sécurité avancées et d'outils de diagnostic pour assurer un fonctionnement harmonieux et prévenir les temps d'arrêt en raison de défauts ou d'erreurs d'équipement. Dans l'ensemble, GS UNIVEX 350 G est un système de pulvérisation par pulvérisation versatile et fiable qui offre des performances et une flexibilité exceptionnelles pour une large gamme d'applications de dépôt en couches minces. De la recherche fondamentale à la production industrielle, cette unité fournit les outils et les capacités nécessaires pour obtenir un contrôle précis des propriétés des couches minces et répondre aux exigences les plus exigeantes du procédé. Avec ses caractéristiques avancées et son design robuste, LEYBOLD UNIVEX 350 G établit une nouvelle norme pour les systèmes de pulvérisation dans le domaine du dépôt de couches minces.
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