Occasion HITACHI 03E-0631 #293807346 à vendre en France

HITACHI 03E-0631 est un équipement de pointe qui établit une nouvelle norme dans la technologie de dépôt de couches minces. Conçu et fabriqué par HITACHI High-Tech, leader mondial de l'analyse des matériaux de pointe et de la nanotechnologie, le système intègre des caractéristiques et des capacités de pointe pour la pulvérisation précise et efficace d'un large éventail de matériaux. Cette unité hautement polyvalente est idéale pour les laboratoires de recherche et développement, les établissements universitaires et les milieux industriels où le dépôt de couches minces est essentiel pour diverses applications. Au cœur de 03E-0631 machine à pulvériser se trouve une chambre à vide sophistiquée équipée de multiples sources de pulvérisation, supports de substrat et interfaces de contrôle de processus. La chambre à vide est conçue pour maintenir des conditions de vide ultra-élevées, assurant un environnement propre et contrôlé pour le dépôt de couches minces. L'outil est capable de pulvériser une variété de matériaux, y compris des métaux, des oxydes et des nitrures, permettant le dépôt de structures multicouches complexes avec une grande précision et uniformité. Une des caractéristiques clés de HITACHI 03E-0631 est ses sources de pulvérisation perfectionnées, qui utilisent la technologie de pulvérisation magnétron pour atteindre des taux de dépôt élevés et une qualité de film supérieure. L'actif est équipé de multiples sources magnétron qui peuvent être configurées pour la pulvérisation à courant continu, RF ou à courant continu pulsé, offrant une souplesse dans les processus de dépôt et permettant le dépôt d'un large éventail de matériaux ayant des propriétés et des caractéristiques différentes. En plus de ses sources de pulvérisation avancée, 03E-0631 est équipé de supports de substrat précis qui permettent un contrôle précis de la température, de la rotation et du positionnement du substrat lors du dépôt. Cela garantit une épaisseur et une qualité de film uniformes sur toute la surface du substrat, même pour les substrats de grande surface ou les géométries complexes. Le modèle dispose également de capacités de surveillance et de contrôle in situ, y compris la mesure en temps réel de l'épaisseur du film et l'analyse de surface du substrat, permettant l'optimisation des processus et l'assurance de la qualité. HITACHI 03E-0631 est conçu avec des interfaces conviviales et des commandes logicielles intuitives qui rendent le fonctionnement et la programmation faciles et efficaces. L'équipement peut être utilisé en mode manuel, semi-automatique ou entièrement automatique, selon les besoins et le niveau d'expertise de l'utilisateur. Des recettes de procédés avancées peuvent être développées et stockées dans la mémoire du système pour des procédés de dépôt de couches minces reproductibles et reproductibles. Dans l'ensemble, 03E-0631 unité de pulvérisation représente le sommet de la technologie de dépôt en couches minces, offrant une précision, une efficacité et une polyvalence inégalées pour un large éventail d'applications. Qu'il s'agisse de caractériser de nouveaux matériaux, de développer des revêtements avancés ou de prototyper de nouveaux dispositifs, cette machine de pointe fournit aux chercheurs et aux ingénieurs les outils dont ils ont besoin pour repousser les limites de la technologie des films minces et de l'innovation. Avec ses caractéristiques avancées, sa conception robuste et ses performances fiables, HITACHI 03E-0631 est un choix idéal pour les laboratoires et les installations qui recherchent un outil de pulvérisation de pointe pour leurs besoins de dépôt de couches minces.