Occasion HITACHI E-1010 #293597935 à vendre en France

HITACHI E-1010 est un équipement perfectionné de pulvérisation PVD qui combine une technologie supérieure et un fonctionnement convivial. HITACHI E1010 comprend un canon de pulvérisation magnétron hyperfréquence de haute puissance capable de produire des films aux propriétés exceptionnelles, même sur des substrats difficiles. La pulvérisation est un processus physique de dépôt en phase vapeur qui repose sur le bombardement d'un matériau cible par des particules énergétiques telles que des ions ou des atomes. Ce bombardement provoque l'éjection d'atomes du matériau cible sur le substrat pour former un film désiré. E-1010 utilise la pulvérisation magnétron pulsée haute fréquence et haute puissance pour obtenir des résultats uniformes et reproductibles. Le canon est capable de dépôt multicouche simple et simultané en utilisant jusqu'à quatre systèmes électriques indépendants. Les systèmes d'alimentation sont variables de 0 à 100 %, ce qui donne aux utilisateurs la possibilité de varier les propriétés du film sur une gamme de valeurs différentes. Cette flexibilité permet de réaliser des films avec une gamme de propriétés telles que rugosité de surface faible, adhérence supérieure et réflectance optique. E1010 comporte un système de contrôle de pression à deux étages constitué d'une chambre à vide externe avec une chambre à pression interne. Cette unité est conçue pour minimiser la contamination et prévenir les problèmes de dégazage lors des dépôts. La machine est équipée d'un dispositif de mesure du courant électronique pour le contrôle précis de la vitesse de dépôt et la surveillance de la composition. HITACHI E-1010 peut manipuler des échantillons jusqu'à 200mm, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications. Il peut également être utilisé pour le dépôt de couches minces sur différents substrats tels que le verre, le quartz, le silicium et le métal. HITACHI E1010 comprend un outil de surveillance à distance de la pression, de la température et d'autres paramètres pendant le dépôt. L'atout est compatible Windows et dispose d'une interface utilisateur graphique conviviale et intuitive. Le modèle intelligent est programmé pour assurer une reconnaissance rapide des commandes et une exécution rapide. E-1010 dispose d'un éditeur intuitif de recettes de processus qui permet aux utilisateurs de personnaliser les processus et de les sauvegarder pour une utilisation future. E1010 est un excellent choix pour des applications telles que les semi-conducteurs, les transistors à couches minces, les dispositifs de stockage de données, les piles solaires et les piles à combustible. HITACHI E-1010 peut être utilisé pour le dépôt de couches minces de métal, d'oxydes métalliques et de combinaisons de matériaux. HITACHI E1010 fournit des résultats reproductibles et cohérents, ce qui en fait un excellent choix pour toutes les exigences PVD.