Occasion HITACHI E-1010 #293604647 à vendre en France

HITACHI E-1010 est un équipement de pulvérisation conçu pour le dépôt de couches minces de métaux et d'oxydes métalliques. Il est largement utilisé dans des domaines de recherche tels que la microélectronique de précision, l'optoélectronique, la nanotechnologie et la science des matériaux. Ce système est généralement constitué de deux composants principaux : la chambre de pulvérisation et la source physique de dépôt en phase vapeur (PVD). La chambre de pulvérisation est une chambre hermétiquement étanche avec une pression de vide inférieure à 8x10-5 mbar. Il contient des chambres de traitement et de transfert de matière, une table d'échantillonnage tournante, un collimateur, un filtre massif et un piédestal fixe. La table d'échantillonnage peut contenir jusqu'à cinq substrats de quatre pouces et peut être chauffée jusqu'à 350 ° C Un collimateur est utilisé pour focaliser les ions pulvérisés vers les substrats placés sur la table tournante. Il y a un filtre massif installé pour filtrer les molécules de gaz instables créées pendant le processus de pulvérisation. La source PVD de HITACHI E1010 est alimentée par une alimentation en courant continu haute tension 25 A et une paire de systèmes d'alimentation en gaz N2/O2 à soupapes de gaz. La source PVD peut être utilisée pour pulvériser jusqu'à cinq matériaux cibles différents simultanément et générer une large gamme d'énergies d'ions pulvérisés de quelques eV à plusieurs keV. Il peut pulvériser des films d'aluminium, de chrome, de fer, d'or et même des matériaux à base de silicium. E-1010 a une caractéristique unique appelée « répartition uniforme des flux » qui garantit que tous les substrats placés sur la table tournante obtiennent des ions régulièrement pulvérisés. De plus, son unité de refroidissement à grande surface de chambre et circulation d'eau de refroidissement contribue à maintenir une température stable pendant le fonctionnement. La machine dispose également de diverses caractéristiques de sécurité telles que la détection des fuites, la régulation de la pression, la télécommande et l'enregistrement des données. En conclusion, E1010 est un outil de pulvérisation très avancé et fiable avec d'excellentes fonctionnalités parfaites pour les activités de recherche et de développement. Grâce à sa technologie précise de pulvérisation ionique, à sa répartition uniforme des flux, à sa régulation de la température et à ses caractéristiques de sécurité, il offre aux utilisateurs une plate-forme de calibre mondial leur permettant d'accomplir leurs tâches de recherche avec facilité.