Occasion HITACHI E-102 #9078351 à vendre en France

HITACHI E-102
ID: 9078351
Ion sputtering system.
HITACHI E-102 est un équipement de pulvérisation conçu pour déposer des films minces uniformément et avec une grande précision sur une variété de substrats. Ce système utilise un processus unique de pulvérisation continue impulsionnelle pour obtenir un ordre de grandeur d'amélioration de la couverture, de l'uniformité et de la rugosité du carré de racine (RMS) par rapport aux systèmes de pulvérisation classiques. E-102 est construit sur une chambre en acier inoxydable robuste, qui supporte une cible fixe en aluminium et un support réglable pour les parois optiquement claires de la chambre. Ce support offre un réglage précis de l'angle et une inclinaison de l'axe qui permet de réduire la non-uniformité des dépôts due aux décharges d'arc. Le procédé de pulvérisation à courant continu impulsionnel génère un plasma à haute énergie et à large surface au niveau de la cible. Ce processus se traduit par un taux de dépôt uniforme, un meilleur éclairage de la cible et une utilisation plus élevée de la cible par rapport aux techniques traditionnelles de pulvérisation. Il minimise également la non-uniformité des dépôts due aux décharges d'arc, car le niveau de puissance plus élevé et l'énergie plus uniforme de pulvérisation HITACHI E-102 peuvent minimiser la tendance à l'apparition d'arcs. En plus du réglage précis de l'angle et de l'inclinaison de l'axe, E-102 offre une configuration d'arc répétable et prédéfinie et est capable de fonctionner à haute puissance, jusqu'à 20 kW, selon le matériau cible. Cela permet des taux de dépôt plus élevés. HITACHI E-102 comprend également une unité de refroidissement intégrée et une alimentation électrique, ce qui facilite la mise en place et l'entretien. E-102 machine de contrôle comprend une interface web pour la télécommande et la surveillance des processus et de l'état de n'importe où dans le monde. Cela permet d'optimiser facilement les paramètres du processus de pulvérisation. HITACHI E-102 dispose également d'un outil breveté de support de cible de tête de douche, qui permet le dépôt de couches minces d'épaisseur variable sans avoir besoin de repositionner la cible. Cet atout signifie que E-102 peut déposer des couches minces de l'ordre de quelques nanomètres à plusieurs microns d'épaisseur, avec une grande précision. HITACHI E-102 est également très fiable, en raison de la conception de chambres en acier inoxydable robuste et des composants de haute qualité utilisés dans le modèle. Le bouclier fermé de la chambre à vide est conçu pour protéger la surface de travail et la paroi de la chambre optiquement claire afin de prévenir la contamination. Dans l'ensemble, E-102 est un équipement avancé de pulvérisation spécialement conçu pour le dépôt en couches minces. Il utilise un procédé innovant de pulvérisation à courant continu pour déposer des films minces de haute qualité et uniformes avec la plus grande uniformité et la plus faible rugosité disponible. La configuration de l'arc prédéfinie, la fixation réglable et le système de refroidissement intégré facilitent la maintenance et l'optimisation du processus. Et l'unité de support de la tête de douche permet un dépôt précis en couche mince sans avoir besoin de repositionner la cible. Dans l'ensemble, HITACHI E-102 est une machine à pulvériser polyvalente et fiable pour déposer des films minces de haute qualité avec une grande précision et répétabilité.
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