Occasion HITACHI E-1030 #293638501 à vendre en France

HITACHI E-1030 est un équipement de dépôt de pulvérisateurs conçu pour créer des couches minces de haute qualité et des revêtements sur les surfaces dans une variété d'industries. Ce système se compose d'un ensemble de pistolets à pulvérisation, d'un contrôleur, d'un porte-substrat et d'une chambre de procédé. L'ensemble du pistolet à pulvérisation est constitué d'une anode, d'une cathode à l'intérieur de la chambre de procédé et d'une pompe à vide. L'anode est construite en cuivre, contenant un filament interne, et est chauffée à 1500 ° C à 2500 ° C par bombardement électronique. La cathode est fabriquée à partir d'un matériau cible et est chauffée par le bombardement électronique de l'anode à des températures de 1000 ° C à 1500 ° C Le porte-substrat est fixé à la chambre de procédé et est chargé de maintenir le substrat en place pendant le processus de dépôt des pulvérisateurs. Le contrôleur est utilisé pour régler la pression, la tension et le courant afin d'ajuster la vitesse de dépôt. La chambre de procédé est un environnement étanche qui peut être réglé pour générer un vide partiel ou complet afin de faciliter le processus de pulvérisation. E-1030 fournit une variété de caractéristiques de conception pour des résultats optimaux, y compris une vitesse de dépôt instantanée élevée, une excellente uniformité sur l'ensemble du substrat en raison d'un champ homogène, et la capacité de travailler avec une variété de matériaux tels que les métaux, les oxydes et la céramique. L'unité est également conçue pour être conviviale et facile à utiliser. Il dispose d'un panneau de contrôle simple et d'un affichage numérique pour visualiser les paramètres du processus et modifier les paramètres au besoin. En outre, il est économe en énergie et rentable, ce qui en fait une option attrayante pour les processus de dépôt sous vide. En plus de ses caractéristiques de conception, HITACHI E-1030 peut également effectuer une variété de techniques de pulvérisation telles que la pulvérisation magnétron à impulsion élevée (HIPIMS) et la décharge pulsée (PGD). HIPIMS fournit un taux de dépôt plus élevé que les autres méthodes de pulvérisation tout en maintenant un revêtement uniforme de haute qualité sur le substrat. PGD est idéal pour les applications à basse température et peut être utilisé pour créer des revêtements denses et conducteurs. Ces deux méthodes de pulvérisation, ainsi que toutes les autres capacités de dépôt de E-1030, en font un outil puissant pour obtenir le résultat souhaité dans une variété de procédés industriels. Dans l'ensemble, HITACHI E-1030 est une machine à pulvériser fiable et conviviale adaptée aux procédés de dépôt de couches minces de haute qualité dans diverses industries. Avec ses caractéristiques de conception avancées, son fonctionnement efficace et ses techniques de pulvérisation polyvalentes, cet outil est un outil idéal pour obtenir les résultats souhaités de la manière la plus rentable et la plus économe en énergie possible.