Occasion HITACHI E-1030 #293671277 à vendre en France

HITACHI E-1030 est un équipement de pulvérisation thermique conçu pour permettre le dépôt de matériaux à couches minces, tels que métaux, oxyde, nitrure et carbone diamant (DLC), sur des substrats afin de créer des dispositifs à couches minces tels que des revêtements optiques, des supports de stockage de données et de l'électronique. Le système se compose d'une chambre à vide, d'un pistolet à pulvérisation, d'un canon à faisceau d'électrons, d'une source précurseur d'azote, d'une unité d'admission de gaz et d'une machine de pompage mécanique. La chambre à vide de E-1030 est de forme ovale et est recouverte de nickel et d'aluminium. Il est équipé d'une vue à quatre voies pour l'observation et le nettoyage. La chambre contient un réseau d'électrodes et un sac gonflable pour maintenir le substrat. Le substrat peut être chauffé par chauffage résistif et a une gamme de températures allant de la température ambiante à 1000 degrés Celsius. Le pistolet de pulvérisation de l'outil fonctionne en bombardant le substrat avec des ions argon. Ces ions bombardent le substrat, provoquant l'éjection d'atomes du matériau cible. Ce procédé est connu sous le nom de pulvérisation et est largement utilisé pour le dépôt de films épais. Le pistolet offre également un procédé d'arc anodique utile pour augmenter l'homogénéité du dépôt du film. Le canon à faisceau d'électrons de l'actif est conçu pour améliorer le processus de pulvérisation. En envoyant un faisceau d'électrons au niveau du matériau du substrat, le canon contribue à augmenter la vitesse totale de dépôt du film tout en minimisant les non-uniformités d'épaisseur du film. La source de précurseur d'azote est destinée à ajouter de l'azote au film en cours de dépôt pour créer un film de nitrure riche en azote. Ce film est très souhaitable dans l'industrie électronique car il présente une résistance diélectrique et une résistance à la corrosion plus élevées. Le modèle d'entrée de gaz de HITACHI E-1030 est conçu pour permettre l'introduction de diverses espèces de gaz dans la chambre. L'équipement se compose de deux entrées de gaz et de deux conduites distinctes pour chaque gaz. Cela permet de mélanger avec précision différents mélanges de gaz, ce qui permet de créer des films spécialisés. Le système de pompe mécanique de l'unité est conçu pour maintenir le niveau de vide désiré de la chambre pendant tout le processus de dépôt. La machine utilise deux pompes à aubes rotatives et une pompe de support pour atteindre le niveau de vide désiré. La contre-pompe est utilisée pour maintenir la pression, tandis que les pompes à aubes rotatives sont utilisées pour évacuer la chambre et maintenir le niveau de vide requis. E-1030 est un outil de pulvérisation par pulvérisation fiable et efficace, permettant le dépôt de matériaux à couches minces très uniformes sur des substrats. Sa combinaison d'un pistolet à pulvérisation, d'un canon à faisceau d'électrons, d'une source précurseur d'azote, d'un actif d'entrée de gaz et d'un modèle de pompe mécanique en font un outil idéal pour le dépôt de structures à couches minces.