Occasion HITACHI E-1045 #293757544 à vendre en France

HITACHI E-1045 est un équipement de pointe conçu pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres industries avancées. Utilisant une technologie et une ingénierie de pointe, E-1045 fournit des revêtements de film précis, fiables et de haute qualité sur divers matériaux de substrat. Caractéristiques et composants clés : Le système de pulvérisation HITACHI E-1045 dispose d'une chambre à vide robuste avec plusieurs stations cibles pour pulvériser différents matériaux sur des substrats. Il est équipé de sources de plasma avancées, telles que les cathodes de pulvérisation magnétron, qui améliorent l'efficacité et l'uniformité du processus de dépôt. L'unité comprend également une unité d'alimentation sophistiquée capable de fournir un contrôle précis des paramètres de pulvérisation tels que la puissance, la pression et les débits de gaz. Cela garantit une qualité de film supérieure et la reproductibilité dans les processus de production. En outre, E-1045 est livré avec un support de substrat fiable qui peut accueillir différentes tailles et types de substrats. Le support permet des angles d'inclinaison réglables, des vitesses de rotation et des capacités de chauffage pour optimiser les conditions de dépôt des films pour des applications spécifiques. Flexibilité et compatibilité des procédés : La machine à pulvériser HITACHI E-1045 offre une large gamme de techniques de pulvérisation, y compris les modes DC, RF et pulsé-DC, permettant aux utilisateurs de déposer des films de différentes compositions et caractéristiques. Il est compatible avec divers matériaux cibles, dont les métaux, les oxydes et les nitrures, permettant le dépôt de structures multicouches complexes et de revêtements fonctionnels. De plus, l'outil supporte des procédés réactifs de pulvérisation par pulvérisation, où un gaz réactif, tel que l'oxygène ou l'azote, est introduit dans l'enceinte pour former des films composés ou des alliages. Cette capacité permet le dépôt de couches minces avec des compositions chimiques et des propriétés spécifiques pour diverses applications. Contrôle et surveillance avancés : Pour garantir la fiabilité et la répétabilité des processus, E-1045 est équipé d'un actif de contrôle avancé qui surveille et ajuste les paramètres clés en temps réel. Le modèle comporte des capteurs intégrés pour mesurer les niveaux de vide, la composition du gaz et les taux de dépôt, ce qui permet aux opérateurs d'optimiser les conditions de processus et de résoudre rapidement les problèmes potentiels. En outre, HITACHI E-1045 est livré avec une interface conviviale qui permet un contrôle précis de tous les paramètres de pulvérisation via une unité de contrôle centralisée. Les opérateurs peuvent programmer les recettes de dépôt, surveiller les paramètres du processus et analyser les données pour obtenir une qualité et une performance de film uniformes. Applications et performances : E-1045 L'équipement de pulvérisation est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de circuits intégrés, de capteurs et d'autres dispositifs électroniques nécessitant des couches minces. Il est également utilisé dans la réalisation de revêtements optiques, de supports magnétiques de stockage et de films décoratifs en raison de sa polyvalence et de ses taux de dépôt élevés. HITACHI E-1045 est connu pour son uniformité de film supérieure, son adhérence et son contrôle d'épaisseur, ce qui le rend adapté à des applications exigeant une grande précision et fiabilité. Que ce soit à des fins de recherche et développement ou de production à grande échelle, E-1045 système de pulvérisation par pulvérisation permet d'obtenir des performances et une efficacité exceptionnelles dans les procédés de dépôt de couches minces. Dans l'ensemble, l'unité de pulvérisation HITACHI E-1045 représente une solution technologiquement avancée pour obtenir des couches minces précises et de haute qualité dans un large éventail d'applications industrielles et de recherche. Sa conception innovante, ses capacités de processus flexibles et ses fonctions de contrôle avancées en font un choix idéal pour les organisations à la recherche de solutions de pulvérisation fiables et efficaces.