Occasion HITACHI IML6-1 #9172028 à vendre en France

HITACHI IML6-1 est un équipement de pulvérisation haute performance pour enduire les matériaux et créer des dispositifs à couches minces. Il dispose d'un étage mécanique plein 6 axes et d'une chambre à vide, qui peut être actionnée en orientation horizontale ou verticale. Le système a également une variété de supports de substrat pour accueillir une variété de substrats, tels que le verre, le métal, le plastique et la céramique. L'unité utilise un accélérateur d'ions basse tension et basse énergie, avec des courants de faisceau jusqu'à 1mA rms et une tache de faisceau large de 30 mm. L'énergie réglable du faisceau, associée à un contrôle avancé du plasma à haute densité, permet le dépôt efficace de divers films minces métalliques, diélectriques et composites à l'aide d'un réseau de sources de pulvérisation. IML6-1 est conçu pour offrir des procédés de revêtement de qualité supérieure avec des niveaux de défauts faibles. Sa conception avancée de chambre et de source assure une uniformité de couverture en contrôlant l'homogénéité de la densité de plasma et de l'énergie des particules pulvérisées, ainsi que l'adhérence métallique et l'homogénéité du film. En outre, il est équipé d'une machine avancée de surveillance du plasma, qui contrôle précisément le positionnement du plasma et l'uniformité du processus. L'outil comprend également des systèmes de pointe pour contrôler la pression sous vide, la teneur en oxygène, l'injection de gaz et la température. Cela permet aux opérateurs de surveiller étroitement le processus et d'assurer des résultats optimaux. HITACHI IML6-1 est équipé d'une interface graphique intuitive, qui le rend facile à utiliser et permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster rapidement et facilement les paramètres des actifs. Il est également soutenu par une documentation en ligne étendue, y compris des guides de dépannage, des instructions d'exploitation, et des conseils d'utilisation. IML6-1 est un choix idéal pour les projets qui nécessitent des performances de pulvérisation supérieures sous contrôle serré. Sa technologie supérieure de protection contre l'usure du substrat et de contrôle du plasma lui permet de fournir des films de qualité fiables, même avec des matériaux très exigeants.