Occasion JM IOTA #129082 à vendre en France

JM IOTA est un équipement de pulvérisation conçu pour déposer des films minces et épais. Le système est une unité de pulvérisation à double magnétron qui se compose de deux chambres de processus ; l'une utilisée pour le dépôt de couches minces et l'autre pour le dépôt de couches épaisses. Chaque chambre contient sa propre cathode, alimentation, plénum et correspondance RF. Une machine Ultra High Vacuum (UHV) est intégrée dans l'outil pour maintenir la propreté des chambres. Ceci permet de déposer un large éventail de matériaux. La chambre de dépôt en couches minces est conçue pour être utilisée pour des substrats plus petits et pour des applications nécessitant une grande pureté, une uniformité et une faible contamination des particules. Il est capable de déposer des matériaux à partir de métaux nobles, d'alliages et de polymères dans une large gamme d'épaisseurs allant de la sous-monocouche jusqu'à quelques centaines de nanomètres. La chambre de dépôt de film épais est conçue pour le dépôt de couches épaisses de matériaux, généralement de quelques centaines de nanomètres jusqu'à quelques microns d'épaisseur. Les oxydes métalliques, les nitrures et les carbures peuvent tous être déposés dans cette enceinte. La chambre est également adaptable pour permettre le dépôt d'un matériau allié. Les deux chambres ont des systèmes de régulation de température réglables, permettant de contrôler avec précision la vitesse de dépôt sur une large gamme de matériaux. Ceci permet d'appliquer des revêtements uniformes et répétables de façon cohérente sur différents substrats. Outre les chambres de dépôt régulières, l'IOTA comprend également un actif de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet le dépôt de films de nanocomposites. Le modèle CVD permet le dépôt en couple de matériaux inorganiques et organiques pour créer des films de nanocomposites multifonctionnels. Dans l'ensemble, l'équipement de pulvérisation JM IOTA est un outil extrêmement polyvalent pour le dépôt de couches minces et épaisses. Le large éventail de matériaux et de procédés qu'il peut accueillir permet aux utilisateurs de créer des films de haute qualité avec une contamination minimale.