Occasion KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300 #9173159 à vendre en France

KOREA VACUUM TECH VTC PVD-1300 est un équipement de dépôt par pulvérisation conçu pour les applications de couche mince et de recherche avancée. Ce système utilise une source de pulvérisation à diode de haute puissance pour déposer des couches minces et produira des revêtements avec une homogénéité exceptionnelle et des taux de dépôt élevés. La distance Source-Wafer (SWD) de l'unité est réglable, permettant diverses configurations des distances cible-substrat pour des conditions optimales de dépôt de film. Le PVD-1300 dispose également d'une machine de bombardement électronique à basse énergie (LEBS) sur la source d'électrons, lui permettant de délivrer des faisceaux d'électrons de grande puissance avec des niveaux d'énergie précisément contrôlés. Cet outil est adapté à une utilisation avec presque n'importe quel gaz et offre la capacité de contrôler la pression du gaz dans l'actif. En plus de ses capacités de dépôt par pulvérisation, le PVD-1300 est équipé de systèmes de régulation de température avancés. Ses sources de chauffage et de refroidissement sont réglables de 10 à 300ºC, et elles peuvent maintenir la température du substrat stable et uniforme. Les consommateurs peuvent également utiliser le modèle de contrôle de pression automatisé du PVD-1300 pour maintenir une pression de fonctionnement constante dans la chambre. KOREA VACUUM TECH PVD-1300 dispose d'un équipement de contrôle intuitif qui permet d'accéder aux paramètres et paramètres du processus de pulvérisation. Il est capable de stocker jusqu'à 10 conditions de fonctionnement prédéfinies, aidant les scientifiques à mettre en place rapidement le système pour une utilisation immédiate. Le PVD-1300 offre également un certain nombre de systèmes de surveillance, tels que sa fonction d'arrêt automatique, pour assurer la sécurité pendant le fonctionnement et prévenir les dommages à l'unité ou à ses composants. Le PVD-1300 est une machine à pulvériser puissante et fiable conçue pour permettre le dépôt de couches minces avec la plus grande précision. Ses systèmes réglables de contrôle de la température et de la température assurent des conditions optimales de dépôt de film, tandis que son outil automatisé de contrôle de la pression offre la commodité de maintenir une pression de fonctionnement constante. Le PVD-1300 dispose également de conditions de fonctionnement prédéterminées et de systèmes de surveillance de la sécurité pour assurer un fonctionnement sûr. Avec ses caractéristiques puissantes et son contrôle précis, KOREA VACUUM TECH PVD-1300 est un excellent choix pour les applications de fine couche et de recherche avancée.