Occasion KURT J. LESKER CMS-18 #9184206 à vendre en France

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ID: 9184206
Sputtering system Dual chamber with load lock (3) Cathodes in each chamber PLC Process control Substrates: Up to 8” diameter Substrate rotation Substrate bias, RF & DC Substrate heater: Up to 500°C 3” Magnetron sputter cathodes Process gases: Ar, O2, N2 RF & DC Power supplies Co-sputter capability.
KURT J. LESKER CMS-18 est un équipement de pulvérisation à haute capacité monopôle spécialement conçu pour des procédés fiables et répétables de dépôt par pulvérisation à basse température. Le système a des caractéristiques avancées pour adopter à la fois la pulvérisation magnétron à courant continu traditionnelle et le Pulsed-DC (PDC). Il s'agit d'un outil de dépôt polyvalent qui permet de pulvériser des couches minces de métaux tels que l'aluminium, le chrome, le cuivre, le nickel, l'or et l'argent. Il convient aux laboratoires universitaires, industriels et de recherche. CMS-18 unité consiste en une seule alimentation haute tension de grande capacité pour alimenter la tête de pulvérisation, une chambre à vide, une pompe à vide et un ensemble d'ensembles VDT (Variable Density Target) précis. L'alimentation est capable de fournir une puissance suffisante jusqu'à quatre têtes de pulvérisation indépendantes. Les assemblages VDT assurent l'uniformité et la cohérence des dépôts de pulvérisateurs. Pour contrôler la vitesse de dépôt, il est prévu un mécanisme de levage variable de la navette qui permet un positionnement précis et uniforme de la cible. La chambre à vide est conçue pour une pression maximale de fonctionnement de 8 mTorr et est adaptée pour fonctionner en mode continu et PDC. La grande chambre à vide est équipée d'une vanne d'isolation montée sur le dessus pour une isolation rapide et sécurisée des gaz au besoin. La machine est également livrée avec des fonctionnalités avancées de contrôle de processus telles que la température et la surveillance de processus. En plus du procédé de pulvérisation, KURT J. LESKER CMS-18 supporte également les matériaux de substrat communs tels que l'alumine, le silicium et d'autres matériaux de dépôt tels que les oxydes, les nitrures, les carbures, les fluorures et d'autres matériaux. L'outil comprend également un atout de livraison de gaz qui permet en outre un processus réactif de pulvérisation. CMS-18 est un outil très efficace qui garantit que tous les procédés tels que le procédé de pulvérisation sont fiables et reproductibles, et que l'uniformité du film déposé peut être considérablement améliorée. Le modèle est livré avec un ensemble de logiciels conviviaux fournissant à l'opérateur des informations en temps réel sur les paramètres opérationnels et le processus de dépôt du film. KURT J. LESKER CMS-18 est un outil excellent et fiable qui apporte une solution aux différentes exigences de dépôt d'articles. En plus de cela, il offre une grande flexibilité et un contrôle sur le processus assurant que les paramètres souhaités et le film de qualité sont atteints. Avec ses excellentes caractéristiques, CMS-18 fournit une solution fiable, avancée et polyvalente de dépôt par pulvérisation à basse température.
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