Occasion KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 #9113549 à vendre en France
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Vendu
ID: 9113549
Thin film deposition system
Various targets
(2) SS Chamber liners
Turbo pump: 500 l/s
Dry pump upgrade
Torus 3 Sources flange assembly
Torus Source flex mount
KJLC 600W RF Power supply
AE DC Power supply: 1.5 kW
Substrate fixture (Top mount, base unit)
Upstream pressure control
Primary rotation
Recipe driven computer control
TKD 100 Recirculating chiller:
Cooling: 10,000 BTU/hr at 20°C
Condenser: Air-cooled, ambient rating at 90°F
Temperature control range: 5-35°C, ± 1°C
T31H Turbine pump: 6 GPM at 60 PSI
Tank: 2.5 gal
Dimensions: 21½" x 35¾" x 28 5/8"
Connector: 3/4" Female NPT
Interior chamber
Gas tanks & targets
Power: 208/230V, 60 Hz (P2), single phase.
KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour la production de semi-conducteurs. Sa disposition compacte et ses fonctions de contrôle automatisé en font une solution idéale pour une utilisation industrielle. Il est capable de créer des revêtements anodiques et cathodiques de divers matériaux et épaisseurs, ainsi que d'autres modifications de substrat. Pro Line PVD 75 intègre une source de courant continu (courant continu) de grande puissance, un étage motorisé bidimensionnel, une alimentation à l'état solide et un module de commande complet. La gamme d'alimentation en courant continu est réglable de 1,2 à 50 kW, ce qui permet de varier les températures des chauffages du substrat. L'étage motorisé équipé d'un système de lecture numérique en boucle fermée permet un contrôle précis et répétable de la position du substrat. En outre, un générateur RF est utilisé pour le processus de pulvérisation. Les paramètres du processus, y compris la température du substrat, le pré-dépôt, la puissance continue de pulvérisation et la pression du gaz, peuvent être réglés via le module de contrôle, et toutes les informations sont affichées numériquement. Le SPI-75 comprend également une unité de dépôt à verrouillage de charge et un porte-cible rotatif. La machine est capable d'accueillir une variété de matériaux cibles et de différentes tailles. Un outil de distribution de gaz inerte est également intégré, permettant de délivrer des pressions plus élevées tout en contrôlant au minimum le niveau de contamination. KURT J. LESKER Pro Line PVD 75 est conçu pour obtenir un dépôt de haute qualité sur un large éventail d'applications. Les paramètres du processus peuvent être ajustés afin d'optimiser les exigences du projet et d'assurer des résultats continuellement de haute qualité. L'actif est également équipé d'une installation de contrôle statistique des processus, permettant une rétroaction en ligne sur le rendement, la qualité et la contamination des particules. Pro Line PVD 75 est un outil de pulvérisation hautement capable qui effectue efficacement et de manière fiable une variété de processus de dépôt et de modification de substrat. Son haut niveau d'automatisation et ses fonctions de contrôle sophistiquées le rendent très efficace tout en produisant les résultats les plus cohérents de la technologie de processus avancée d'aujourd'hui.
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