Occasion KURT J. LESKER PVD 75 #293608382 à vendre en France

KURT J. LESKER PVD 75 est un équipement de dépôt sous vide de couches minces utilisé pour produire des films de divers matériaux sur des substrats rigides et souples. La technologie derrière ce système est appelé dépôt physique en phase vapeur (PVD) et permet le dépôt uniforme de films de quelques nanomètres d'épaisseur seulement sur une variété de surfaces. Contrairement à d'autres formes de dépôt, le PVD ne nécessite pas l'utilisation de gaz combustibles ou de températures extrêmes, ce qui en fait le choix idéal pour toute une gamme d'applications tant dans les milieux industriels que scientifiques. PVD 75 dispose d'une pompe turbomoléculaire avec une pression ultime de 1x10-10 Torr et une chambre conflat de 2,75 pouces. La source d'évaporation du filament de tungstène est enfermée dans un obturateur en acier inoxydable et est faraday protégée pour éliminer les interférences. Tous les paramètres électroniques peuvent être contrôlés et ajustés via l'interface utilisateur à écran tactile. Le contrôleur de processus KURT J. LESKER PVD 75 permet à l'utilisateur de contrôler avec précision la vitesse de dépôt et l'épaisseur de la couche, ainsi que le niveau de puissance et le courant du filament. L'unité comprend également un moniteur d'épaisseur de film afin d'assurer l'application de la couche sur l'épaisseur désirée. De plus, le PVD 75 dispose d'un logiciel pour l'utilisateur, qui lui permet de créer des recettes de processus très précises et dynamiques pour différentes applications cinématographiques. Ce logiciel permet également la surveillance à distance, permettant à l'utilisateur de s'enregistrer sur la machine sans être présent. L'installation comprend également une chambre de verrouillage de charge, ainsi qu'une fenêtre tactile à écran plat. Dans l'ensemble, KURT J. LESKER PVD 75 est un outil polyvalent et précis pour l'application de matériaux à couches minces sur les surfaces. Il est spécifiquement conçu pour créer des films très homogènes qui n'ont que quelques nanomètres d'épaisseur, et ce sans introduction de gaz combustibles ou de températures extrêmes. Ce logiciel permet un contrôle précis du processus de dépôt, tandis que ses composants électroniques intégrés permettent une surveillance et un ajustement détaillés. Le PVD 75 est un excellent outil pour toute une gamme d'applications, industrielles ou scientifiques, et est un choix idéal pour ceux qui recherchent un modèle précis et efficace de dépôt de couches minces.